Gebraucht RIBER 49 #9307797 zu verkaufen

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Hersteller
RIBER
Modell
49
ID: 9307797
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Molecular beam epitaxy system, 8" Materials: Indium, GaAs, Aluminum Operated with programmable shutter controller Max substrate temperature: 1000°C Manipulator: LN2 Cooled As and Sb Crackers included (16) Supplies for cells (3) Prep chamber heater and manipulator (3-4) Spare controllers (2) Ports: 3"-6" 7"-8" 2001 vintage.
Molecular Beam Epitaxy (MBE) ist eine Technik, die verwendet wird, um Schichten von Verbindungen oder Atomen auf einer Substratoberfläche zu wachsen, um qualitativ hochwertige Grenzflächen mit elektronischen und optoelektronischen Eigenschaften zu bilden. RIBER 49 ist eine hochmoderne MBE-Ausrüstung, die hochwertige epitaktische Schichten vielseitig und kostengünstig herstellt. Das System ist in der Lage, Multi-Source-Abscheidung, so dass die Abscheidung von verschiedenen Materialien aus bis zu 10 unabhängigen Quellen. Dies ermöglicht die Abscheidung sehr komplexer Materialien wie komplexe Legierungen, Supergitter und Nanostrukturen. Das Gerät ist mit einer Reihe von Quellen ausgestattet, einschließlich hocheffizienter Quellen für die schnelle Abscheidung, Elektronenzyklotronresonanzquellen für die Hochtemperaturabscheidung und Ultraniederdruckquellen für die Ultrahochvakuumabscheidung. Darüber hinaus ist 49 in der Lage, bei einer Reihe von Substrattemperaturen zu arbeiten, was eine Optimierung der Gitteranpassung und komplexere Wachstumstechniken ermöglicht. Die Maschine ist mit einem Echtzeit-Überwachungswerkzeug ausgestattet, das eine Temperatur- und Druckkontrolle und Prozessparameteroptimierung in Echtzeit ermöglicht. Um die Wachstumsqualität zu gewährleisten, ist die Probenkammer mit einer fortschrittlichen Gaseinspritzanlage ausgestattet, die die Einführung von ultrareinen Gasen für Hochtemperaturwachstum ermöglicht. Dies ermöglicht eine stärkere Kontrolle der Oberflächenoxidation und anderer Umwelteinflüsse. Darüber hinaus ist das Modell mit einer Reihe von Diagnosewerkzeugen ausgestattet, wie einem optischen Mikroskop, einem Keilspaltprofiler, einer Sekundär-Ionen-Massenspektroskopie und einer Rasterelektronen-Mikrokopie. Diese können verwendet werden, um das Wachstum zu überwachen und die Verbesserung der Abscheidungsparameter in Echtzeit zu ermöglichen. RIBER 49 ermöglicht eine extrem präzise Abscheidung von hochqualitativen epitaktischen Schichten. Es bietet hohe Leistung, Flexibilität und Wirtschaftlichkeit und ist somit ideal für Forschungslabore und Universitäten. Mit seinem breiten Spektrum an Funktionen und Fähigkeiten können 49 für eine Vielzahl von Forschungs- und Fertigungsanwendungen verwendet werden und bieten eine unübertroffene Wachstumsqualität für eine Vielzahl von Anwendungsanforderungen.
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