Gebraucht RIBER 49 #9383825 zu verkaufen

Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) ist eine fortschrittliche Dünnschicht-Wachstumstechnik, bei der chemische Dampfabscheidung (CVD) oder physikalische Dampfabscheidung (PVD) verwendet wird, um dünne Filme auf einer Waferoberfläche zu erzeugen. RIBER 49 ist eine hochmoderne automatisierte MBE-Maschine, die für das kostengünstige Wachstum ultradünner Folien ausgelegt ist. 49 verwendet die Reflective Interference Enhanced (RIE) Technologie, die die Inhomogenität der Abscheidungsrate minimiert und gleichzeitig die Substrattemperatur stabil hält. RIBER 49 bietet Multi-Source-Fähigkeiten und umfasst zwei Effusionszellen, eine Hochfrequenz (RF) -Plasmaquelle und eine massenanalysierte Ionenstrahlquelle. Durch die Verwendung der Multi-Source-Fähigkeit von 49 kann eine breite Palette von Verbindungen angebaut werden. RIBER 49 verfügt zudem über eine Substratheizung bis 500 ° C und ein integriertes Vakuumsystem für den Wachstumsprozess. Die Abschirmung von 49 gewährleistet eine optimale Umwelt- und elektrische Sicherheit mit einer Vakuumkammer, die die Luftverschmutzung beseitigen und die Probenkontamination unter akzeptablen Werten halten soll. RIBER 49 enthält auch ein fortschrittliches Echtzeit-Prozessüberwachungssystem, das Echtzeit-Feedback liefert und eine flexible Anpassung der Abscheidungsparameter ermöglicht. 49 ist mit einer Touchscreen-Schnittstelle ausgestattet, die Fernzugriff und Datenanalyse zur Überwachung des Wachstumsprozesses ermöglicht. RIBER 49 bietet ein hervorragendes Kristallwachstum bei niedrigen Substrattemperaturen und bietet die Möglichkeit, eine breite Palette von Kristallstrukturen anzubauen. Die Multi-Source-Fähigkeiten und die niedrige Betriebstemperatur ermöglichen die Abscheidung unterschiedlichster Materialien wie Oxide, Nitride und Metalle zu Heterostrukturen mit kontrollierten Grenzflächeneigenschaften. 49 ist ein vielseitiges MBE-System, das es Forschern ermöglicht, dünne Filme mit optimaler Leistung und hoher Gleichmäßigkeit auf verschiedenen Substraten abzuscheiden. Die niedrigen Substrattemperaturen und die Kompatibilität mit mehreren Quellen ermöglichen das Wachstum verschiedener Kristallstrukturen, wodurch Forscher Einblick in die Natur von Nanostrukturen erhalten. RIBER 49 bietet auch die Möglichkeit, den Prozess in Echtzeit zu überwachen, was eine schnelle Prozessoptimierung ermöglicht. 49 bietet somit eine leistungsstarke Lösung für Forscher, die die neuesten Fortschritte in der Material- und Geräteforschung verfolgen.