Gebraucht VARIAN / VEECO GEN II #9215068 zu verkaufen

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ID: 9215068
MBE System P/N: 981-4001 Includes: Main chamber Electronics rack Plate Removed parts: RHEED Gun Source cells Transfer arms.
VARIAN/VEECO GEN II ist eine Art von Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) -Ausrüstung, die für hochwertiges Dünnschichtwachstum in einer Vielzahl von Anwendungen konzipiert ist. Es verwendet eine Vakuumkammer und eine Kombination von Elektronenstrahlen und Teilchen von Elementen, wie Silizium und Gallium, um Atomschicht dünne Filme dieser Materialien zu wachsen. VEECO GEN II ist einzigartig, da es eine einzigartige Technik verwendet, die E-Strahl-Verdampfung genannt wird, um dünne Materialfilme abzuscheiden. Dieser E-Strahl entsteht beim Anlegen eines elektrischen Feldes an das Material, wodurch die Moleküle des Materials in einem Teilchenstrahl ionisiert oder beschleunigt werden. Der Dünnschichtwachstum beginnt mit dem Einpumpen des Materials in das Vakuumsystem. Dieses Material bildet ein Ausgangsmaterial und wird auf eine bestimmte Temperatur erhitzt, wodurch Atome von der Oberfläche des Ausgangsmaterials abgezogen werden können. Gleichzeitig richtet und steuert der E-Strahl die Abscheidung des Ausgangsmaterials auf ein Substrat, wo der dünne Film wächst. Mit zunehmender Dicke der Folie kann das Wachstum moduliert werden, indem zusätzliche Elemente (Dotierstoffe) in die Einheit eingebracht werden, die die Eigenschaften und die elektrischen Eigenschaften des Dünnfilms wie Spannung, Widerstand, Bandlücke und Dielektrizitätskonstante beeinflussen. VARIAN GEN II verfügt außerdem über zwei Vakuumpumpen und eine VEECO Opticron Bildverarbeitungsmaschine, mit der Benutzer das Wachstum des Dünnfilms überwachen können. Es enthält auch einen Oberflächenanalysator, mit dem die Oberflächenqualität der Probe gemessen wird, und ein Load-Lock-Werkzeug, mit dem die Probe mit höheren Abscheideraten, höherer Qualität und wiederholbaren Experimenten verarbeitet werden kann. GEN II ist eine hochmoderne MBE-Anlage, die Wissenschaftlern und Ingenieuren helfen kann, hochwertige Dünnschichten für eine Vielzahl von Anwendungen von Mikroelektronik bis Sonnenenergie zu erstellen. Es ist ein unschätzbares Werkzeug für diejenigen, die nach hochwertigem Dünnschichtwachstum für ihre Projekte suchen, und wurde für eine breite Palette von Studien verwendet, einschließlich Messungen von belasteten Dünnschichtstrukturen, Schnittstellenstudien, Dopingstudien usw.
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