Gebraucht VARIAN / VEECO GEN II #9225851 zu verkaufen

VARIAN/VEECO GEN II ist eine Molekularstrahl-Epitaxie-Ausrüstung, die eine zuverlässige Möglichkeit bietet, hochwertige Dünnschicht-Halbleitermaterialien herzustellen. Das System besteht aus einer Vakuumkammer, in der die Reaktion stattfindet, und einer Reihe unabhängiger, aber zusammenhängender Komponenten. Die Kammer umfasst ein Substratfutter, eine Laserheizquelle, einen Schalungsmechanismus, eine Gassteuereinheit, Abscheideköpfe und eine Schnelllöscheinrichtung. Durch das Substratfutter kann eine Substratprobe wie eine Siliziumscheibe, Glasplatte oder eine Galliumarsenidscheibe befestigt werden. Die Laserheizquelle kann auf eine gewünschte Temperatur von bis zu 1000 ° C eingestellt werden, wodurch genügend Wärme für ein fortgeschrittenes epitaktisches Wachstum erzeugt wird. Der Schalungsmechanismus ermöglicht eine präzise Steuerung des Reaktantenstrahls und arbeitet in Verbindung mit der Laserheizquelle, wodurch eine gleichmäßige Wärmeverteilung im gesamten Substrat möglich ist. Die Gassteuermaschine verwendet einen separaten Gaskasten, der die Abscheidung bei niedrigem Vakuumdruck ermöglicht. Dies gewährleistet einen effektiven MBE-Prozess mit minimaler Verschmutzung und minimaler Oberflächenrauhigkeit. Die Abscheideköpfe können auf nahezu jede beliebige Zusammensetzung der Epitaxialfolie abgestimmt werden. Die hergestellten Schichten können je nach Bedarf des Anwenders von Nanometern bis Mikrometern reichen. Die Schnelllöscheinrichtung arbeitet wie ein Verschluss, stoppt die Filmabscheidung schnell und präzise, um unerwünschte Wechselwirkungen zu vermeiden und eine gleichmäßige Filmabscheidung zu gewährleisten. VEECO GEN II bietet eine zuverlässige und genaue Möglichkeit, hochwertige Dünnschicht-Halbleitermaterialien herzustellen. Zusätzlich kann dieses Werkzeug Schichten unterschiedlicher Dicke, Zusammensetzungen und Oberflächenrauhigkeit erzeugen, die für ein fortschrittliches epitaktisches Wachstum erforderlich sind. Kurz gesagt, VARIAN GEN II ist eine ideale Lösung für Anwender, die Präzision und Zuverlässigkeit bei der Herstellung von Dünnschicht-Halbleitermaterialien benötigen.