Gebraucht VARIAN / VEECO GEN II #9225866 zu verkaufen

VARIAN/VEECO GEN II ist eine Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) -Ausrüstung, die zur Herstellung hochpräziser, einkristalliner Dünnschichten aus Verbundhalbleitern mit überlegener Reinheit und atomarer Kontrolle der Schichtdicke verwendet wird. VEECO GEN II ist mit zwei Effusionszellen ausgestattet - eine für Gruppe III-Elemente und die andere für Gruppe V. Die Zellen sind auf einem dreiachsigen Manipulator zur Optimierung der Substrattemperatur und des Flusses montiert. Das Substrat wird auf eine Temperatur von bis zu 750 ° C erwärmt, während ein Verschluss verwendet wird, um den Fluß aus den Effusionszellen unabhängig vom Manipulator zu unterbrechen. Das System ist auch mit einer Reflexion High Energy Electron Diffraction (RHEED) Einheit ausgestattet, die eine On-the-Fly-Flussrate und Geometrieoptimierung ermöglicht. Dies ermöglicht eine bessere Überwachung des Wachstums und gewährleistet eine höhere Qualität des Endprodukts. Darüber hinaus verfügt VARIAN GEN II über eine niederenergetische Ionenquelle, die hilft, Fehler in der Folie zu reduzieren. GEN II verfügt auch über einen Vierkammer-Vakuumofen, der ein effizientes Filmwachstum bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung einer sauberen und ultrahochen Vakuumumgebung ermöglicht. Die vier Kammern sind über Lastschloßöffnungen mit einer Vakuumentgasungskammer verbunden. Diese Kammer ist dann mit einer Turbomolekularpumpe und einer Turbowiderstandspumpenkombination verbunden, die die für das Materialwachstum erforderliche Ultrahochvakuumumgebung bereitstellt. VARIAN / VEECO GENERAL II bietet auch eine breite Reihe anderer Bestandteile, wie ein restlicher Gasanalysator, Mikrowellenelektronzyklotronklangfülleplasmaquelle und ein Ringdoppelbalkenevaporator. Insgesamt bietet die VEECO GEN II MBE Maschine eine einzigartige Kombination aus Flexibilität und Steuerung, um die effiziente Produktion hochwertiger, homogener Halbleiter-Dünnschichten mit hervorragenden strukturellen und elektrischen Eigenschaften zu unterstützen. Es ist sehr geschätzt für seine Fähigkeit, eine geschlossene Schleife Steuerwerkzeug beizubehalten, ermöglicht präzise und konsistente Filmwachstum und Gleichmäßigkeit der Halbleitermaterialien entwickelt.