Gebraucht VARIAN / VEECO GEN III #9197483 zu verkaufen

Die Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) von VARIAN/VEECO GEN III ist ein hochpräzises Forschungswerkzeug, mit dem dünne Filme auf einem Substrat erzeugt werden. Diese Technologie wird am häufigsten bei der Abscheidung von Materialien auf einer Vielzahl von Substraten wie Silizium, Galliumarsenid und Zinkoxid verwendet. Dieses System ist in der Lage, Materialschichten, die nur wenige Nanometer dick sind, mit einer höheren Gleichmäßigkeit und Genauigkeit als andere Abscheidungsprozesse abzuscheiden. Damit ist VEECO GEN III eine ideale Einheit für die Erstellung von Kleingeräten oder Komponenten. Die Maschine besteht aus mehreren Hauptkomponenten, dem Verdampfer, dem Verschluss, dem Gasverschluss, dem Quarzkristallmonitor, dem Widerstandsheizer, dem Richtmassenstromregler und den Stromversorgungen. Der Verdampfer dient zum Halten und Erwärmen von Material, das auf dem Substrat abgeschieden werden soll. Der Verschluss steuert den Materialfluss beim Passieren aus dem Verdampfer. Der Gasverschluss dient zur Steuerung des Einschlusses von Gasen wie Stickstoff und Wasserstoff in das Material beim Abscheiden. Der Quarzkristallmonitor gibt Rückkopplung über die Dicke und Gleichmäßigkeit des abzuscheidenden Materials, während der Widerstandsheizer verwendet wird, um den Verdampfer auf einer vorgegebenen Temperatur zu halten. Der Richtungsmassenflussregler wird verwendet, um den Druck und die Geschwindigkeit des Materials einzustellen, während die Stromversorgungen zur Versorgung der Werkzeugkomponenten mit der richtigen Spannung und dem richtigen Strom verwendet werden. VARIAN GEN III asset ist auch mit einer Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, einschließlich Überlastschutz für den Verdampfer, Ionenpumpen für chemische Eindämmung und Filterpumpen für Partikeleindämmung. Das Modell ist hochautomatisiert, mit Software für eine effiziente Steuerung aller Anlagenkomponenten konzipiert. Die Software hat auch die Möglichkeit, eine Vielzahl von zusätzlichen Komponenten zu steuern, einschließlich Temperaturprofilierung und Positionierung des Substrats, um komplizierte Abscheidungsmuster zu erzeugen. GEN III-System gilt aufgrund seiner Genauigkeit und Präzision bei der Abscheidung von Schichten aus Halbleitern und anderen Materialien als die führende Abscheidungstechnologie. Diese Einheit ist für Forschung und Entwicklung weit verbreitet und wurde bei der Erstellung vieler Produkte einschließlich Halbleiterchips und optischen Komponenten verwendet. Seine Fähigkeit, kleine und komplizierte Komponenten zu erstellen, hat es zu einem unschätzbaren Werkzeug in der fortschrittlichen Technologieentwicklung gemacht.