Gebraucht VARIAN / VEECO UHV #9081064 zu verkaufen
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ID: 9081064
System
SS Chamber:
O-ring sealed cover & has a 1 ½" viewport
(2) sets of Curvac ports around the circumference
Upper set of ports include four 2 ¾" and three 3-3/8" Curvac flanges
Pumping system:
(2) Ultek sorption roughing pumps including manifold & manual valving
Veeco MI300 Mag Ion pump rated at 300 l/s complete w/ Model CU510 power supply
Mounted on a compact table.
Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) ist ein Werkzeug für die Herstellung von kristallinen Materialien auf der Nanoskala verwendet. VARIAN/VEECO UHV MBE-Ausrüstung ist für die Abscheidung komplexer Dünnschichtmaterialien auf einer Vielzahl von Substraten konzipiert, so dass komplexe Heterostrukturen durch molekulares Wachstum erzeugt werden können. Durch die Kombination der Komponenten einer herkömmlichen Molekularstrahlquelle, wie Effusionszellen und Elektronenstrahlkanonen, mit denen eines Hochtemperatur-Hochvakuumsystems werden hohe Abscheideraten und Gleichmäßigkeit erreicht. Herzstück der VEECO UHV MBE-Einheit ist die Ultrahochvakuumkammer (VARIAN UHV). Innen befindet sich eine Umgebung mit einem Basisdruck von weniger als 10-7 Torr, einem Temperaturbereich von bis zu 1200 ° C und der Fähigkeit, Substrate mit Abmessungen von bis zu 6 "Durchmesser aufzunehmen. Solche Bedingungen sind für das Arbeiten mit Molekularstrahlabscheidung wesentlich. Neben der UHV-Kammer verfügt die VEECO MBE-Maschine auch über eine Reihe von molekularen Strahlquellen, darunter eine Elektronenstrahlpistole mit zwei Kanonen, Verdampfungszellen und Sputterquellen. Die Dual-Gun-Elektronenstrahlpistole ist für die Niedertemperaturabscheidung ausgelegt, während Verdampfungszellen für die Hochtemperaturpräzision verwendet werden. Die Sputterquellen bieten ein vielfältigeres Spektrum an Ablagerungsmöglichkeiten. Durch die Steuerung der Parameter der Quellen ist das VARIAN/VEECO UHV MBE Tool in der Lage, eine nahezu grenzenlose Vielfalt an Dünnschicht- und/oder Heterostrukturen zu erzeugen. Ein separates Netzteil, das DC- und HF-Eingang liefert, versorgt die Quellen. Dies hilft, eine genaue und präzise Abscheidung des Materials zu gewährleisten. Weiterhin unterstützt wird der Prozess durch eine Auswahl von Automatisierungskomponenten wie Positionierer, automatisierte Probendrehsysteme und Massendurchflussregler. Diese Komponenten ermöglichen es dem Anwender, die gewünschten Substrate genau auszuwählen und die Parameter des Wachstumsprozesses genau zu kontrollieren. Schließlich ist das VEECO UHV MBE-Modell in einem robusten, ergonomischen Gehäuse untergebracht, das auf Benutzerkomfort und Sicherheit ausgelegt ist. Die Ausrüstung verfügt auch über eine Vielzahl von fortschrittlichen Systemüberwachungs- und Sicherheitssystemen, so dass es eine ideale Wahl für jedes Laborunternehmen Molekularstrahl-Epitaxieprojekte.
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