Gebraucht VEECO GEN 2000 #293610396 zu verkaufen

VARIAN/VEECO GEN 2000 ist eine Einkammer-Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) -Ausrüstung. Es ist ein vielseitiges und anspruchsvolles Werkzeug, das zur Abscheidung und Verarbeitung dünner Schichten aus elementaren und zusammengesetzten Halbleitermaterialien verwendet wird. MBE ist ein Dampfphasen-Wachstumsprozess, der eine präzise Kontrolle der Zusammensetzung, Dicke und Dotierung von Halbleiterschichten ermöglicht. Das VEECO GEN 2000 MBE-System verwendet Atomstrahlen aus mehreren Elementarquellen, die kombiniert und nach unten auf das beheizte Substrat gerichtet sind. Das Substrat kann entweder aus einkristallinen oder polykristallinen Halbleitermaterialien bestehen und wird auf die Wachstumstemperatur erhitzt. Die Kammer wird auf einem niedrigen Basisdruck im Bereich von 10 ^ (-11) bis 10 ^ (-7) Torr gehalten, dann kondensieren die gewünschten Dämpfe auf der Substratoberfläche zu einer definierten kristallinen Schicht. VARIAN GEN 2000 bietet eine außergewöhnlich stabile Wachstumsumgebung, die es ermöglicht, Schichten mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit, Homogenität und kristalliner Qualität anzubauen. Das Gerät verwendet einen Ultraschall-Encoder, um die Abscheiderate der Schichten genau zu überwachen. Diese hochpräzise Steuerung der Wachstumsbedingungen bietet eine ideale Plattform für die Entwicklung komplexer Strukturen wie Halbleiterübergitter und Quantenbohrungen. Die Maschine GEN 2000 MBE umfasst zwei hochgenaue Verschlussklappen, einen steuerbaren Verschlussimpulsantrieb, ein automatisiertes Reflektometer und einen Auto-Nivellierer mit hoher Genauigkeit. Die Verschlussklappen bieten eine einstellbare Steuerung der Atomstrahlintensität und der Verschlussimpulsantrieb ermöglicht eine genaue Steuerung der Verschlussimpulslänge. Das automatisierte Reflektometer dient zur schnellen in situ optischen Überwachung der Dicke der abzuscheidenden Halbleiterschichten. Der Auto-Nivellierer mit hoher Genauigkeit passt das Substrat kontinuierlich an, um die Ebenheit auch bei ungleichmäßiger Oberflächenbelastung aufrechtzuerhalten. VARIAN/VEECO GEN 2000 MBE-Tool bietet auch eine Reihe von erweiterten Prozesssteuerung, wie in situ Feedback-Kontrolle der Abscheidungsraten, automatisierte Prozesssteuerung der gepulsten Abscheidung, automatisierte Reaktantensteuerung und lastgestützte Prozesssteuerung. VEECO GEN 2000 MBE asset ist ein führendes Beispiel für moderne Materialverarbeitungsfähigkeit. Es bietet technologisch fortschrittliche Werkzeuge, um die Abscheidung komplexer Halbleitermaterialien mit beispielloser Genauigkeit und Kontrolle zu ermöglichen.