Gebraucht VEECO Gen II #9057008 zu verkaufen
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ID: 9057008
Weinlese: 1984
MBE Growth system
Wagon wheel prep chamber with auger analysis
Auxiliary chamber
Growth chamber
Manual valve
Ion-pumped 4-effusion cell system
(8) Effusion cells, 2"
(4) Upward-looking effusion cells
All GaAs: InALGaAs based materials with Si and Be dopant sources
(3) Ion pumps at base
(2) Sorption pumps
Functional RHEed and QMS
Spare parts and effusion cells available
No phosphorous deposited
6-Wafer load lock
O2 Plasma source
H2S Cracker cell
H2S3 Cracker cell
EUROTHERM Temperature controller
Operation system and computer
1984 vintage.
VARIAN/VEECO GEN II ist eine Molekularstrahl-Epitaxie (MBE), die für die Herstellung einer breiten Palette optoelektronischer und elektronischer Materialien optimiert ist. Es bietet einen hochmodernen modularen Aufbau, der einfache Konfigurationsänderungen ermöglicht. Es ist mit einem fortschrittlichen Steuerungssystem ausgestattet, das eine verbesserte Steuerung der Prozessparameter bietet. Es hat die Fähigkeit, eine breite Palette von Materialien abzuscheiden, einschließlich Halbleitermaterialien wie Galliumnitrid (GaN), Indiumgalliumarsenid (InGaAs), Galliumarsenid (GaAs) und Indiumphosphid (InP), sowie Metalle wie Gold und Aluminium. Darüber hinaus ist die Einheit in der Lage, mehrere fortgeschrittene Materialabscheidungstechniken wie Ionenstrahlunterstützte Abscheidung durchführen (IBAD), wo ein speziell entwickelter Ionenstrahl verwendet wird, um das Material zu profilieren und zu bilden, adsorptionsgesteuerte Abscheidung, eine Technik, die sicherstellt, dass Material nur auf exponierten Oberflächen abgeschieden wird, und metallunterstützte chemische Ätzung (MACE), eine innovative Technik, die verwendet werden kann, um eine Vielzahl von nanostrukturbasierten Vorlagen zu erstellen. VEECO GEN II Maschine ist auch mit mehreren fortschrittlichen Diagnosesystemen ausgestattet, die verwendet werden können, um die Qualität des abgelagerten Materials zu überwachen und zu bewerten. Dazu gehören in situ Reflektometrie und Rasterelektronenmikroskopie Bilder. Das Tool ist auch mit einem automatisierten Wafer Monitoring Asset integriert. Dies ermöglicht eine Echtzeit-Waferanalyse und Qualitätskontrolle, die eine optimale Materialabscheidungsleistung ermöglicht. VARIAN GEN II Modell ist auch mit mehreren Sicherheitsmerkmalen wie Lichtbogendetektoren, Gaskonzentrations- und Detektormonitoren und einer Sicherheitsverriegelungseinrichtung ausgestattet. Die Funktionen sollen ein hohes Maß an Sicherheit für Betreiber und Forscher gleichermaßen gewährleisten. GEN II System ist eine leistungsstarke und flexible Plattform für die Herstellung optoelektronischer und elektronischer Materialien. Die fortschrittliche Steuereinheit sorgt dafür, dass die Prozessparameter für eine optimale Materialabscheidungsleistung erhalten bleiben. Es hat die Fähigkeit, eine breite Palette von Materialien abzulegen, was es für viele verschiedene Anwendungen geeignet macht. Darüber hinaus ist die Maschine mit mehreren fortschrittlichen Diagnosesystemen ausgestattet, die eine umfassende Analyse der Materialabscheidungsqualität sowie zahlreiche Sicherheitsmerkmale bieten.
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