Gebraucht VEECO Gen II #9207238 zu verkaufen
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ID: 9207238
Wafergröße: 3"
MBE System, 3"
For III / V growth
Sources: Flange, 4.5"
(8) Sources:
(2) Ga
(2) In
Al
Si
Be
Valved as cracker
RHEED / QMS
(2) Ion pumps
Growth chamber: 400 Liters
Prep chamber: 220 Liters
Cryo pump for growth chamber
Turbo pump and mechanical pump for load lock
Bake out panels
AMBER
Nitrogen / Oxygen RF plasma source
Power supplies
Temperature controller
Servo motor control
Sample manipulator with control system, 3"
Sample holders
Clean chamber
Crucible size: 30 to 60 cc
CTI8 Cryo pump
Turbo pump size: 140 Liter per second
Substrate heater: 1000°C
(3) Ion gauges
Pyrometer
PC
(5) Sample holders.
Eine VARIAN/VEECO GEN II ist eine ausgeklügelte Form der Molekularstrahl-Epitaxie (MBE), die für fortgeschrittene Forschung und Entwicklung auf dem Gebiet der Halbleitermaterialwissenschaften entwickelt wurde. Diese Maschine ermöglicht eine präzise Steuerung des Wachstums von nanometerskalierten Materialschichten von einzelnen Atomen bis hin zu komplexen Molekülen. Das System ist in der Lage, mehratomige Schicht-für-Schicht-Wachstumsprozesse mit ultimativer Gleichmäßigkeit und Kontrollierbarkeit durchzuführen. Herzstück der Einheit ist die MBE-Zelle, die in zwei getrennte Kammern unterteilt ist. Die erste Kammer ist der Probenhalter oder Substrathalter, der so ausgelegt ist, dass er eine Vielzahl von Basissubstrattypen, einschließlich Wafern, Substraten, Epitaxieschichten und anderen Materialien, sicher aufnimmt. Der Probenhalter wird dann auf die gewünschte Temperatur erhitzt und mit einem Thermoelement überwacht. Innerhalb der MBE-Zelle befindet sich das Substrat in einer Ultrahochvakuumkammer und wird von mehreren Noppen und Schaltern verwaltet, die zur Einstellung von Parametern wie Druck, Temperatur und Durchflussrate verwendet werden. Die zweite Kammer enthält mehrere Gasquellen, aus denen die verschiedenen Materialien für den Epitaxieprozess erzeugt werden. Zu diesen Quellen können elementare Quellen wie Arsen und Phosphor sowie molekulare Quellen komplexerer Moleküle wie Wasserstoffselenid gehören. Die Gase werden dann zur Probenhalterkammer transportiert, üblicherweise über einen Effusionsheizer, wo sie einem Substrat ausgesetzt werden und zur Erzeugung von Verbundschichten verwendet werden können. Die Maschine enthält auch mehrere MBE-Steuerungssubsysteme, die diese Prozesse verwalten, wie die Thermo- und Druckregelsysteme, die HF-Scanstufe und das automatische Tuning and Calibration (ATC) -Werkzeug. Das ATC liefert umfassende Feedback-Informationen über die Wachstumsprozesse und stellt sicher, dass die richtigen Bedingungen für jede Schicht der Abscheidung festgelegt werden. Insgesamt bietet VEECO GEN II ein umfassendes und präzises Werkzeug für die fortgeschrittene Forschung und Entwicklung von Halbleitermaterialsystemen. Das Modell bietet eine überlegene Steuerung einer Vielzahl von Parametern, die ein kontrolliertes Wachstum komplexer Materialien auf Nanoskala ermöglichen. Mit den fortschrittlichen Eigenschaften dieser Ausrüstung sind Forscher in der Lage, kundenspezifische und präzise Nanostrukturen zu erstellen, die in einer Vielzahl von Anwendungen und Forschungsbereichen eingesetzt werden können.
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