Gebraucht VEECO Gen II #9234453 zu verkaufen

VARIAN/VEECO GEN II Molekularstrahl Epitaxie (MBE) Ausrüstung ist ein Hochleistungs-Abscheidungssystem, das in der Lage ist, qualitativ hochwertige epitaktische Schichten von Materialien auf Wafern zu schaffen. VEECO GEN II ist in der Lage, dünne Schichten von Halbleitermaterialien wie Galliumarsenid (GaAs) auf III/V-Verbindungshalbleitermaterialien wie Indiumphosphid (InP) zu erzeugen. Dies gelingt durch eine Kombination aus hochauflösenden Verdampfungsquellen und einer präzisen Flusssteuerung, die die Abscheidung von epitaktischen Schichten mit einer Dicke bis unter ein Nanometer ermöglicht. VARIAN GEN II ist mit zwei unabhängigen MBE-Zellen ausgestattet, die eine gleichzeitige Abscheidung verschiedener Schichten für die Herstellung optoelektronischer und anderer Halbleiterbauelemente ermöglichen. Jede MBE-Zelle hat drei Materialquellen, wobei jede unabhängig voneinander konfiguriert ist, um die Abscheidung eines einzelnen Materials auf den Wafer oder eine Kombination von bis zu drei Arten gleichzeitig zu ermöglichen. Diese Quellen werden unabhängig voneinander auf eine Temperatur bis 1000 ° C erhitzt, und die MBE-Zelle erlaubt eine präzise Steuerung des Flusses dieser Spezies bis zur Bildung der gewünschten Schichten. GEN II ist mit einem HF-Plasmagenerator und einer Elektronenzyklotronresonanzplasmaquelle mit externen Antennen ausgestattet. Diese Plasmaquellen tragen zu einer besseren Zerstäubung und höheren Abscheidungsraten bei. Dies hilft, die für MBE-Schichten benötigte Abscheidezeit zu reduzieren, Zeit bei der Herstellung zu sparen und die Produktionseffizienz zu erhöhen. VARIAN/VEECO GEN II umfasst auch eine hochgenaue Prozessüberwachungs- und Steuerungsmaschine. Dieses Tool ermöglicht die gleichzeitige Überwachung mehrerer physikalischer und chemischer Parameter während des Wachstumsprozesses, wodurch eine präzise Prozesskontrolle gewährleistet ist. Mit diesem Asset können MBE-Prozesse exakt durchgeführt werden, was zur Herstellung hochwertiger Epitaxieschichten führt. VEECO GEN II ist mit einem Nachwachsreinigungsregler zum Entfernen von Restmaterial von der Substratoberfläche ausgestattet. Das Modell umfasst auch eine Heizstufe für Vor- und Nachwachstumsbehandlungen auf bis zu 3-Zoll-Substraten sowie eine automatische Rückkopplungsregelung zur Überwachung und Regelung des Kammerdrucks und anderer Prozessparameter. VARIAN GEN II MBE ist ein fortschrittliches, hochgenaues epitaktisches Abscheidungssystem, das die zuverlässige Herstellung hochwertiger epitaktischer Schichten ermöglicht. Das Gerät kombiniert die Leistung hochauflösender Verdampfungsquellen mit einer präzisen Flusssteuerung, die das Wachstum von Schichten mit einer Dicke bis unter ein Nanometer ermöglicht. GEN II umfasst auch eine hochgenaue Prozessüberwachungs- und Steuerungsmaschine, die eine hochpräzise Durchführung von MBE-Prozessen ermöglicht. Der Post-Growth-Reinigungsregler und die Heizstufe vervollständigen den Wachstumsprozess effektiv und tragen dazu bei, hohe Ausbeuten bei der Herstellung von Epitaxieschichten zu erhalten.