Gebraucht VEECO Gen II #9254261 zu verkaufen

Molekulare Strahlepitaxie (MBE) ist eine fortschrittliche Technik, die verwendet wird, um hochgeordnete Nanostrukturen und Materialschichten mit Sub-Nanometer-Präzision zu schaffen. VARIAN/VEECO GEN II ist eine molekulare Strahlepitaxie (MBE), die zur Synthese komplexer, hochpräziser Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Es bietet mehrere Vorteile gegenüber herkömmlichen MBE-Systemen, einschließlich einer höheren Genauigkeit und Kontrolle der Schichtabscheidung, einer höheren Durchsatzleistung und einer erhöhten Kompatibilität mit modernen III-V-Halbleitermaterialien. Das VEECO GEN II-System enthält mehrere Komponenten, die für die Herstellung von Geräten erforderlich sind. Im Kern befinden sich die beiden Elektronenstrahlquellen, eine von einem hochpräzisen Energieanalysator und eine andere mit einer kollimierten Elektronenkanone gesteuert. Diese Elektronenströme werden nicht nur bei der Schichtabscheidung, sondern auch bei der Reinigung und Oberflächenpräparation durch chemisches Sputtern und native Oxidentfernung eingesetzt. Ein robuster Temperaturregler hält genaue Temperaturen im gesamten Gerät und Wafer während der Prozessschritte konstant erhitzt. Die Maschine wird computergesteuert und über eine benutzerfreundliche Schnittstelle überwacht. Der Benutzer kann verschiedene Prozessparameter einstellen, wie Abscheiderate, Strahlspannung und Temperatur. Mit dieser Steuerung können Anwender leicht hochauflösende Materialschichten mit Sub-Nanometer-Präzision herstellen. Hunderte von anpassbaren Prozessen können gespeichert und für wiederholbare Ergebnisse zurückgerufen werden. VARIAN GEN II dient auch als Plattform zur Entwicklung individueller Software und Prozesse. Es verfügt über mehrere Programmiersprachen, einschließlich C++ und MATLAB, Erstellen einer Umgebung freundlich für benutzerdefinierte Software und Anwendungen. Seine leistungsstarke Entwicklungsumgebung ermöglicht es Benutzern, Prozesse zu ändern, Makros zu erstellen, Zeitfolgen zu steuern und anspruchsvolle Methoden zu erstellen. Insgesamt ist GEN II ein äußerst effizientes und vielseitiges Molekularstrahl-Epitaxiewerkzeug. In Verbindung mit kundenspezifisch entwickelter Software werden ihre Fähigkeiten noch beeindruckender. Es ermöglicht Anwendern, komplexe Geräte in Nanoskalen zu erstellen und bietet Anwendern beispiellose Präzision und Kontrolle bei der Entwicklung von Komponenten.