Gebraucht VEECO Gen II #9359604 zu verkaufen

Molekularstrahl-Epitaxie ist eine fortschrittliche Technik zur Herstellung von Dünnfilmmaterialien mit präziser Kontrolle über Schichtdicke, Gleichmäßigkeit und Zusammensetzung. VARIAN/VEECO GEN II ist eine hochmoderne Molekularstrahl Epitaxie Ausrüstung, die verbesserte Leistung und Vielseitigkeit bietet. VEECO GEN II wurde entwickelt, um höhere Wachstumsraten als herkömmliche und bestehende Molekularstrahl-Epitaxie-Systeme zu erreichen und gleichzeitig eine überlegene Kontrolle über Schichtdicke, Gleichmäßigkeit und Zusammensetzung zu bieten. VARIAN GEN II verwendet eine Triple Metal, Tri-Source (TMTS) -Konfiguration, die aus drei unabhängigen Quellen für verdampfbare Materialien besteht. Mit dem TMTS können ultra-niedrige Dotierstofffraktionen, hochflächige Materialuniformität und abstimmbare Wachstumsraten das Gerätedesign für eine optimale Leistung anpassen. Darüber hinaus ermöglicht der alternative Quellarm des TMTS, zusätzliche Quellen von Reaktionsmaterialien für erhöhte Zusammensetzungsflexibilität und Mehrschichtwachstum hinzuzufügen. GEN II ist zudem mit einem Echtzeit-In-situ-Überwachungssystem und einer computergesteuerten Verschlusseinheit ausgestattet, die mehr Kontrolle über das Filmwachstum bietet. Die Echtzeiteinheit überwacht die Schichtdicke, Gleichmäßigkeit und Dotierungsstufen und ermöglicht eine überlegene Kontrolle des Materialabscheidungsprozesses. Die Verschlussanordnung kann verwendet werden, um ausgewählte Bereiche aus der Abscheidung zu maskieren, wodurch mehr Kontrolle über Verunreinigungskonzentrationen, Schichtgleichförmigkeit und Zusammensetzung gegeben wird. Neben seiner verbesserten Leistung bietet VARIAN/VEECO GEN II eine hervorragende Umweltstabilität und Sauberkeit. Die Maschine ist mit ultra-low outgassing Ultra High Vacuum (UHV) Komponenten ausgestattet, was die Wahrscheinlichkeit von Verunreinigungen auf dem Wafer absetzen reduziert. Darüber hinaus verfügt VEECO GEN II über ein Gasstrahlrad, das hilft, die Bildung unerwünschter Staubpartikel zu beseitigen, die dann in die Kammer spiralförmig einlaufen und das Filmwachstum verunreinigen können. Insgesamt ist VARIAN GEN II ein fortschrittliches Molekularstrahl-Epitaxie-Tool, das überlegene Leistung, Vielseitigkeit und Umweltstabilität bietet. Durch überlegene Echtzeit-Überwachungsfunktionen, anpassbare Wachstumsraten und Zusammensetzungen und extrem niedrige Ausgasungskomponenten bietet GEN II eine verbesserte Kontrolle über den Abscheidungsprozess und schafft präzise strukturierte Dünnschichtmaterialien mit Einheitlichkeit und Wiederholbarkeit.