Gebraucht ADVANCED VACUUM SYSTEM DPS-2 #9078812 zu verkaufen

ADVANCED VACUUM Equipment DPS-2 ist ein fortschrittliches, multifunktionales Plasmaätz-/Abscheidungssystem. Es wird zum Ätzen und Abscheiden dünner Filme auf Substraten in einer Hochvakuumumgebung verwendet. Die Einheit verfügt über eine stationsbasierte Konstruktion, die zwei unabhängige Kammern verwendet, um einen Doppelbetrieb zu ermöglichen. Das Standardmodell umfasst eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle, eine Vakuumvorkammer, eine turbomolekulare Vakuumpumpe mit einem Xenon-Gas-Dosierventil, einen flexiblen Antrieb und eine frei konfigurierbare Prozesskammer. Die Vakuumvorkammer beherbergt zwei große Tore, eine Verdampfungsquelle und eine Quarzkristallmikrowaage. Die Turbomolekularpumpe ermöglicht einen Hochvakuumbetrieb, während das Gasdosierventil den Benutzern eine präzise Steuerung der Gasbelastungen ermöglicht. Der Antrieb ermöglicht eine robuste, schwingungsarme Positionierung und der modulare Aufbau sorgt dafür, dass die Maschine einfach skalierbar und aufrüstbar ist. Zentrales Herzstück des Werkzeugs ist die induktiv gekoppelte Plasmaquelle (ICP), die zur Erzeugung einer flammenartigen Flamme zum Ätzen oder Beschichten der Substrate dient. Das ICP wurde entwickelt, um eine sehr gleichmäßige Plasmaabscheidung mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit für gleichbleibende Filmqualität zu gewährleisten. Das ICP hat eine breite Palette von Leistungsstufen, einstellbar von 1 bis 3 kW, so dass es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet. Es ist auf einem robusten Rahmen mit einem hoch einstellbaren Gaseinlass und -auslass montiert, so dass Benutzer Prozessvariablen genau steuern können. Die Prozesskammer ist mit drei Vakuumdichtungen verschlossen. Es ist mit einem 50 mm Quarzfenster, einem Vakuumschieber und einer integrierten Heizung ausgestattet. Das Quarzfenster ermöglicht einen optischen Zugang zur Prozesskammer, während das Absperrventil den Innendruck der Prozesskammer aufrechterhält. Die eingebaute Heizung liefert die thermische Energie, die für Beschichtungs- und Ätzprozesse benötigt wird. DPS-2 ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen konzipiert. Es eignet sich für Ultra-Hochvakuum-Anwendungen sowie für Hochdurchsatz-Produktionsverfahren. Es ist in der Lage, einen hochwertigen Dünnfilm mit ausgezeichneter gleichmäßiger Abdeckung und Wiederholbarkeit zu produzieren. Die Anlage ist kompatibel mit einer Reihe von Substraten, wie Wafer, Keramik, Kunststoffe und andere Materialien. Es ist auch in der Lage, mehrere Ätzzyklen mit konsistenten Ergebnissen. Insgesamt ist ADVANCED VACUUM Model DPS-2 eine leistungsstarke, vielseitige Plasmaätz-/Abscheidungsausrüstung, die für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. Es bietet eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit und erweist sich als zuverlässig und effizient. Mit seinem robusten Design und der einfachen Skalierbarkeit ist das System die ideale Wahl für industrielle Prozesse auf Produktionsebene.