Gebraucht ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SH-801 #9216766 zu verkaufen

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SH-801 ist ein hochmodernes Photolacksystem zur Spin-Beschichtung von Photolackmaterialien. Es ist für den Einsatz von Photolackpolymeren, wie Polymethylmethacrylat (PMMA), Polyhydroxy- und Polysilikat-basierten Photoresists, auf Substraten ausgelegt. Diese Einheit ist ideal für photolithographische Prozesse, die die Erstellung komplexer und komplizierter Muster auf einem Substrat ermöglichen. ASSI SH-801 ist eine vollautomatisierte Maschine, die hochwertige Dünnschicht-Photolackschichten mit gleichmäßiger Dicke und gleichmäßigem Widerstand herstellt. Es verfügt über ein digitales Display und einen digitalen Zähler, um genaue und wiederholbare Spin-Geschwindigkeitseinstellungen bereitzustellen. Eine automatische Dosierung ermöglicht eine präzise Dosierung von Photolack ohne manuellen Eingriff. Das Werkzeug besteht aus zwei Hauptkomponenten: einem mikroprozessorgesteuerten Spin-Controller und einer Spin Coater-Baugruppe. Der Spin-Controller umfasst einen Hochleistungs-Drehmoment- und Drehzahlmotor, der während des gesamten Spin-Coating-Prozesses eine präzise und wiederholbare Drehzahl gewährleistet. Die Spin-Coater-Baugruppe muss fest mit dem Substrat verbunden sein, auf dem Photolack aufgebracht werden soll. Das Asset kann entweder manuell oder automatisch betrieben werden. Der manuelle Modus ermöglicht es Benutzern, die gewünschte Spin-Geschwindigkeit und Dosierrate sowie die Zeit, für die der Spinner Zyklus einstellen sollte. Im Automatikmodus kann das Modell die Zeit selbst berechnen, die benötigt wird, um eine optimale Drehgeschwindigkeit und Dicke der Photolackschicht zu erreichen. ADVANCED SPIN Equipment INC SH-801 ist auch mit präziser Temperaturregelung konzipiert, die hilft, eine gleichmäßige Photoresist-Beschichtung über das gesamte Substrat zu gewährleisten. Die Temperatur ist einstellbar und das System ist mit einem Vakuumsensor ausgestattet, um die Temperatur genau zu messen und anzupassen. SH-801 ist eine effiziente und zuverlässige Photolackeinheit mit einem breiten Anwendungsspektrum. Es ist einfach zu bedienen und kann verwendet werden, um komplexe und komplizierte Muster auf Substraten mit konsistenter Dicke und Widerstand zu erstellen. Es eignet sich für den Einsatz in einer Vielzahl von Branchen, darunter Mikroelektronik, Optik, Halbleiter und Datenspeichergeräte.