Gebraucht ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M1 #293657910 zu verkaufen

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M1 ist ein fortschrittliches Photoresist-Spin-System, das für die genaue und präzise Abscheidung von Dünnfilm-Photoresist auf Halbleitersubstraten entwickelt wurde. Diese Spin-Einheit verfügt über einen großen Flüssigkeitsbehälter für Bulk-Photolack und eine kartenbasierte Steuerungsmaschine, mit der Benutzer ohne manuelle Arbeit oder Fehler schnell und präzise dünne Filme aus Photolack auf Substraten erzeugen können. ASSI SV-702 M1 kann bis zu 8 Substrate gleichzeitig auf einem Keramikfutter aufnehmen und bietet eine wiederholbare und zuverlässige Dünnschichtabscheidung mit einer Vielzahl von häufig verwendeten Fotoresistmedien. Der Motor und die unterstützende Hardware-Einheit ist entworfen und getestet, um geräuscharmen, effizienten Betrieb zu gewährleisten, mit multi-variablen Geschwindigkeitsregeleinstellungen, verfügbar für jedes Substrat, ermöglicht eine präzise Beschichtungsdicke und gleichmäßige Spinnungen. Das Fotoresist-Abscheidungswerkzeug wird mit einer Reihe von peripheren Werkzeugen geliefert, um die Präzision der Dünnschichtabscheidung zu unterstützen. Eine sorgfältig kalibrierte Temperaturregelung gewährleistet eine exakte Photolackviskosität für die gewünschte Substratleistung. Eine thermisch geregelte Dampf- und Substrattrocknung kann Trocknungszeiten bieten, die für eine Vielzahl von Anwendungen optimiert sind. Das Modell enthält auch eine präzise Nadelluftstromausrüstung, die hilft, höhere Drehgeschwindigkeiten und eine verbesserte Foliengleichförmigkeit zu erzielen. Automatisierte Messtechnik-Software kommt vorinstalliert, die es Anwendern ermöglicht, schnell und einfach Filmdicke und andere wichtige Parameter während der Fotolackierung zu überwachen. ADVANCED SPIN System INC SV-702 M1 bietet auch Sicherheitsverriegelung Unterstützung mit einer Reihe von benutzerdefinierten Parametern, Warnung Benutzer auf jede mögliche missbräuchliche Verwendung oder potenzielle gefährliche Bedingungen. Die benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche macht es einfach, die verschiedenen Dünnschichtabscheidungsparameter wie Drehgeschwindigkeit, Temperatur und Luftstrom zu programmieren und zu überwachen. Außerdem vereinfachen abnehmbare Ausrichtvorrichtungen die Substratplatzierung und verbessern so die Genauigkeit und Präzision der gesamten Spineinheit. Für die überlegene Substratverarbeitung ist SV-702 M1 eine vielseitige und zuverlässige Photoresist-Spin-Maschine, die entworfen wurde, um höchste Genauigkeit und Präzision zu gewährleisten und gleichzeitig einen sicheren Betrieb und eine zuverlässige Filmabscheidung zu gewährleisten. Mit diesem Werkzeug können Anwender leicht Dünnfilm-Fotolack mit wiederholbarer Leistung auf einer Vielzahl von Substraten produzieren, ohne manuelle Arbeit.