Gebraucht ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M2 #293650591 zu verkaufen

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M2 ist ein Photoresist-System zur präzisen Spin-Beschichtung von Halbleiterscheiben und Substraten mit Präzisionsniveau. Das Gerät umfasst einen Großrechner, Front-End-Controller, obere und untere Spin-Pan-Baugruppen, Waferträger und Sub-Micron-Genauigkeit Spin-Beschichtung für voreingestellte Prozessparameter. Der obere Spin Pan steuert genau die Abscheidung von Photolack bei hohen Geschwindigkeiten, auch in anspruchsvollen Umgebungen. Die Polyethylen-Oberwanne ist an einer Präzisionslageranordnung aufgehängt, die eine glatte Drehung und Genauigkeit von bis zu 0,002mm Durchmesser bietet. Es ist mit einem Feinabstimmungsschrittmotor integriert, der präzise Drehzahlen und eine gleichmäßige Spin-Beschichtung ermöglicht. Die untere Spinnwanne ist so ausgelegt, dass sie die Photolackflüssigkeit präzise überträgt. Das dreiachsige Design ermöglicht genaue, feine Anpassungen der Abscheidepfade, wodurch eine exakte Abdeckung des Wafers und eine Präzisionskontrolle erreicht werden kann. Sein hochpräzises Lager und unser fortschrittlicher Back-End-Controller ermöglichen eine präzise Einstellung der Flüssigkeitsabscheidung auf der Ebene und unter einem Winkel, der maßgeblich zur Steuerung der Dicke und Gleichmäßigkeit der Photolackschichten beiträgt. Der Waferträger ist zum sicheren Halten und Transportieren von Wafern unter Beibehaltung ihrer Sauberkeit ausgelegt. Der starke, leichte Aluminiumrahmen und die vier Eckratschen sorgen dafür, dass die Wafer sicher verriegelt sind und der Waferträger sicher an der Haupteinheit befestigt ist. Die Präzisionskontrollsoftware ermöglicht eine einfache Einrichtung und Einstellung der Maschine, so dass automatisierte und wiederholbare Operationen möglich sind. Es verfügt über eine grafische Benutzeroberfläche und eine breite Palette von Anpassungsparametern, wie Drehgeschwindigkeit und Drehrichtung und Einstellungen für die oberen und unteren Drehwannengrößen. ASSI SV-702 M2 bietet eine präzise und genaue Steuerung des Photoresist-Spin-Beschichtungsprozesses. Submikron-Genauigkeit Präzisions-Spin-Beschichtung kann erreicht werden und enge Parameter können angepasst werden, um konsistente Beschichtungsergebnisse zu erzielen. Es sind Kosten das wirksame, zuverlässige und genaue Werkzeug für Halbleiter photowidersteht Prozessanwendungen.