Gebraucht ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M2 #9155954 zu verkaufen

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M2 Photoresist-System ist ein Mikrofabrikationswerkzeug der nächsten Generation, das für die lithographische Verarbeitung von Substraten mit Eigenschaften im Nanometermaßstab entwickelt wurde. Es nutzt eine sanfte „Spin-on-Glass“ -Technik, um Dünnschicht-lichtempfindliche Photoresist-Beschichtungen unterschiedlicher Dicke auf Oberflächen zu erzeugen. ASSI SV-702 M2 ist eine hochpräzise Vollgehäuseeinheit, mit der Benutzer die Dicke, Form und Größe der Photolackschichten auf einem bestimmten Substrat genau steuern können. Dies geschieht durch einen drehzahlvariablen Spinner, einstellbare Abscheiderate und eine präzise Belichtungskammer. Zusammen ermöglichen sie Benutzern, nanoskalige KEs auf beliebiges Material zu mustern. Das Gerät besteht aus hochwertigen Materialien, und seine proprietäre Hardware und Software wurde entwickelt, um Konsistenz und Wiederholbarkeit in den Oberflächeneigenschaften des Substrats zu gewährleisten. Die Software ermöglicht es dem Anwender auch, die abgeschiedene Fotolackdicke mit der automatischen Selbstinspektion kontinuierlich zu überwachen. Der spinnbare Halter in der Einheit ist darauf ausgelegt, das Substrat für die Spin-Coat-on-Glass-Verarbeitung genau auszurichten. Dies gewährleistet eine gleichmäßige Photolackbeschichtung über die Oberfläche, unabhängig von Größe und Form. Darüber hinaus verfügt ADVANCED SPIN Unit INC SV-702 M2 über eine leistungsfähige und erweiterbare Rezepturbibliothek, die es Ihnen ermöglicht, die Beschichtung des Photolacks schnell auf bestimmte Substrate zuzuschneiden. Darüber hinaus ist das Gerät mit einer Reihe von Flüssigkeiten und anderen Materialien kompatibel, so dass eine genaue Abscheidung von Photoresists und anderen Behandlungsflüssigkeiten auf Oberflächen. Insgesamt ist SV-702 M2 eine hochmoderne Photolackmaschine, die für den Einsatz in der nanoskaligen Fertigung entwickelt wurde. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und der präzisen Steuerung können Anwender wiederholbare und homogene Dünnschicht-Photoresist-Beschichtungen erzielen, die mit einer breiten Palette von Materialien kompatibel sind.