Gebraucht ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M2 #9156021 zu verkaufen

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M2 ist ein Photoresist-Spin-Beschichtungssystem, das für die neuesten Lithographietechniken entwickelt wurde. Das Gerät ist so konzipiert, dass es eine sehr reproduzierbare und zuverlässige Methode der Spindelbeschichtung und der Entwicklung von Dünn- und Dickschicht-Photoresists bietet. Es verfügt über eine intuitive Steuerungsmaschine, die es einfach zu bedienen macht. Das Werkzeug besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem Spin-Coating-Futter, einem Photolack-Dispense-Modul und einem integrierten Plattenantrieb. Das Spinnfutter ermöglicht die gleichmäßige Abscheidung des Photolacks über einem Substrat. Seine Haltekapazität reicht von 1 "oder 2" Durchmesser Wafer bis 12 "Wafer, und Substrate können dünn oder dick, starr oder flexibel sein. Das Photoresist-Dispense-Modul ist zum schnellen Be- und Entladen von Photolack und zur präzisen Abgabe von Photolack in das Spin-Coating-Futter ausgelegt. Es kommt auch mit mehreren Reservoir-Optionen für verschiedene Arten von Fotolack. Das integrierte Plattenlaufwerk bietet die schnelle Geschwindigkeit, die für Anwendungen mit hohem Durchsatz erforderlich ist. Es verwendet erweiterte Drehmomentsteuerung, um genaue und wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Die Anlage bietet hervorragende Leistung und Wiederholbarkeit von Spindelbeschichtungen und Entwicklungsvorgängen und eignet sich besonders für Anwendungen mit geringem Volumen und hoher Leistung. Das Modell kann einfach für manuelle, halbautomatische oder vollautomatische Produktionsumgebungen konfiguriert werden. Es ist kompakt und einfach zu bedienen und bietet verschiedene Optionen, um die spezifischen Anforderungen der Anwendung zu erfüllen. Darüber hinaus ist das Gerät mit Blick auf die Sicherheit konzipiert und mit einer Verzögerungswärme-Option ausgestattet, die die vollständige Entfernung von flüssigem Fotolack vor der Handhabung ermöglicht. ASSI SV-702 M2 ist eine ideale Wahl für die Herstellung hochwertiger Photoresist-Lithographiegeräte und für die Photomasken-Bearbeitung. Es wurde entwickelt, um überlegene Leistung, Wiederholbarkeit und Sicherheit zu bieten und kann an die Anforderungen verschiedener Anwendungen angepasst werden.