Gebraucht ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #293601652 zu verkaufen

ID: 293601652
Wafergröße: 2"-6"
Spin Rinse Dryer (SRD), 2"-6" Electro-polished stainless chamber Maximum speed: 2,800 RPM Rinse and dry time: 0-9999 sec On-Board N2 Heater N2 Filter Anti-static cell Resitivity Monitor (RM) SDC-01 Controller Door seal lock Thermo sensor Pressure switch Human Machine Interface (HMI) Pre-heat N2 setting Throughput: 300-2400 Wafer an hour (2") Uptime: >95% Option: Manual door EPO Emergency off switch.
ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 ist ein hochmodernes Photoresist-System, das unübertroffene Präzision und Leistung bei der Verarbeitung unternehmenskritischer Komponenten bietet. Diese Maschine wurde entwickelt, um die automatische Abscheidung einer ultradünnen Photolackschicht zu ermöglichen, die mittels Photolithographie präzise strukturiert werden kann. Sein fortschrittlicher Spinnermotor, die integrierte Wafer-Ausrichtungsfunktion und die hochauflösende digitale Anzeige überwachen die Anwendung von Photolack während des Spin-Coating-Prozesses genau. Dieses Gerät ist mit einer ganzen Reihe von DI- und DC-Spiir-Quellen ausgestattet, so dass eine vollständige Anpassung an die genauen Anforderungen jedes Benutzers möglich ist. ASSI SV-702 bietet eine Reihe von Funktionen, die eine einwandfreie Abscheidung und Photolackbeschichtung gewährleisten. Eines dieser Merkmale ist seine Präzisionsscheibenausrichtung, die eine genaue Positionierung des Fotolacks auf der Waferoberfläche ermöglicht. Diese Maschine eliminiert die Möglichkeit einer versehentlichen Fehlausrichtung und sorgt dafür, dass der Photolack gleichmäßig und genau auf die Waferoberfläche aufgebracht wird. Das Tool bietet auch eine überlegene Kontrolle der Drehgeschwindigkeit, so dass Benutzer eine ideale Drehgeschwindigkeit für eine ideale Beschichtungskonsistenz beibehalten können. Dadurch wird sichergestellt, dass der Photolack präzise und gleichmäßig über die Waferoberfläche verteilt ist, so dass eine genaue Beschichtung innerhalb eines Mikrons in der Dicke möglich ist. Darüber hinaus wird ADVANCED SPIN Asset INC SV-702 entwickelt, um eine überlegene Gleichmäßigkeit innerhalb der Beschichtung über die gesamte Waferoberfläche zu erreichen. Dies geschieht durch die Verwendung eines Dual-Flow-Spinnermotors. Dieser Motor dreht den Fotolack vorsichtig und gleichmäßig mit optimaler Geschwindigkeit, während ein Präzisionsstrahler die Wärme gleichmäßig verteilt. Dadurch wird sichergestellt, dass die Photolacktemperatur auf einem gleichmäßigen Niveau gehalten wird, wodurch eine gleichmäßige Abscheidungsdicke erreicht wird. Das Modell bietet auch Flexibilität und Kompatibilität mit einer breiten Palette von Photoresists. So können Anwender mühelos den Fotolack auswählen, der am besten zu ihrer jeweiligen Anwendung passt. SV-702 ist auch mit einem hochauflösenden digitalen Display ausgestattet, das eine höhere Genauigkeit und bessere Visualisierung der Beschichtungsprogrammierung ermöglicht. Insgesamt ist ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 ein hochmodernes Photoresist-System, das Anwendern unübertroffene Genauigkeit und Präzision bei der Verarbeitung unternehmenskritischer Komponenten bietet. Seine erweiterten Funktionen, breite Kompatibilität und hochauflösende digitale Anzeige machen es zur idealen Lösung für die Fotolackverarbeitung.
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