Gebraucht ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #9155953 zu verkaufen

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 Photoresist System ist ein anspruchsvolles Fertigungswerkzeug entwickelt, um mikroelektromechanische Systeme mit hoher Präzision und Genauigkeit herzustellen. Es besteht aus der Haupt-Fotolackeinheit, einem automatisierten Handhabungsschrank, einer Resist-Vorbackeinheit, Spinn- und Sprühfunktion, einer Kochplatte, einer Rezirkulationspumpeneinheit und Komponenten zur Säurespülung, um eine Wafer-Passivierung zu ermöglichen. Die Hauptfotoresisteinheit ist eine in sich geschlossene Einheit mit der benutzerfreundlichen Schnittstelle. Es besteht aus Spender, Pumpe, Rührer und Reservoirs für die einzelnen und gemischten Photoresists. Die Abgabe des Photolacks erfolgt durch eine Hochdruckmikropumpe, die für jede Anwendung einen genauen und konsistenten Fluss liefert. Der Rührer in der Einheit wird verwendet, um die korrekte Viskosität der Photoresistlösung während der Abgabe aufrechtzuerhalten. Die Behälter ermöglichen die Verwendung der einzelnen oder gemischten Photoresists, während das Pumpen zwischen verschiedenen Lösungsbehältern ermöglicht wird. Der automatisierte Handhabungsschrank besteht aus einer Reihe von Schubladen für die Waferhalter, die zur Bearbeitung in die Maschine eingebracht werden sollen, sowie aus einem Tablett, das mit mehreren Wafern gleichzeitig beladen werden kann. Das automatisierte Handhabungswerkzeug ermöglicht die Übertragung des Wafers von Vorratsbehältern auf die Spinn- und Sprühfunktion. Die Resist-Vorbackeinheit ist ein Gut, das die Stabilität des Wafers gewährleistet, wenn er dem Resist-Prozess ausgesetzt ist. Die Einheit besteht aus einem Vorheizofen, der sowohl Unter- als auch Oberheizungen aufweist. Die untere Heizung hilft, die gewünschte Temperaturverteilung auf dem Wafer zu erzeugen, während die obere Heizung eine gleichmäßige Widerstandsdicke gewährleistet. Die Spinn- und Sprüheinheit ist ein Modul aus Spinn- und Sprühkammer. Es wird zum gleichmäßigen Aufbringen von Photolack auf die Oberfläche eines Wafers verwendet. Die Einheit arbeitet über eine schnelle Drehung des in der Kammer angeordneten Wafers. In Kombination mit dem Luftzylinder dient die Spinn- und Sprüheinheit dazu, den Fotolack gleichmäßig auf die Oberfläche des Wafers zu verteilen. Die Kochplatte bietet eine Plattform, auf der der Wafer gleichmäßig bis maximal 125 Grad Celsius erhitzt werden kann. Es ist eine temperaturgesteuerte Oberfläche, auf der der Wafer zum Backen erhitzt werden kann, während mit einem Rührstab gerührt wird, um eine gleichmäßige Resistdicke zu gewährleisten. Das Rezirkulationspumpenmodell besteht aus einer Reihe von Pumpen, die den Photolack umwälzen. Diese Einrichtung sorgt dafür, dass die Photolacke konstant homogen und innerhalb der akzeptablen Parameter bleiben. Die Säurespülkomponenten werden zur Wafer-Passivierung verwendet. Dies trägt dazu bei, dass die Waferoberfläche nicht mit Rückständen der Photoresistlösung und anderen für Ätzprozesse verwendeten Komponenten verunreinigt wird. ASSI SV-702 Photoresist-System ist ein hochentwickeltes Fertigungswerkzeug mit Schlüsselfunktionen für Präzision und Genauigkeit bei der Herstellung mikroelektromechanischer Einheiten. Mit seinem automatisierten Handhabungsschrank, Resistvorbacken, Spinn- und Sprühfunktion, Kochplatte, Rezirkulationspumpe Maschine und saure Spülkomponenten bietet es Herstellern die Fähigkeit, effiziente und zuverlässige Produktionsprozesse zu erreichen.