Gebraucht ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #9294809 zu verkaufen

ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702
ID: 9294809
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2010
Spin Rinse Dryer (SRD), 6" 2010 vintage.
ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 ist eine leistungsstarke und fortschrittliche Photoresist-Einheit, die hervorragende Ergebnisse auf zuverlässige und effiziente Weise liefert. Dieses System nutzt fortschrittliche Technologie, um hochempfindliche und konsistente Bestrahlung des Photolackmaterials zu erzeugen. ASSI SV-702 ist eine hochentwickelte Rolle-zu-Rolle-Einheit, die eine präzise Kontrolle der Bildverarbeitung auf sehr dünnen Substraten ermöglicht. Es verwendet einen HeNe-Laser, um das Photolackmaterial präzise und präzise zu bestrahlen. Dies gewährleistet einen äußerst zuverlässigen Prozess, bei dem gleichbleibend hochwertige Ergebnisse erzielt werden. Die Maschine hat drei Hauptkomponenten - den Kern, die Spülmaschine und den Reiniger. Der Kern erzeugt den Laser, wobei die Spülmaschine nach der Bestrahlung für das Waschen des Photolackmaterials verantwortlich ist. Der Reiniger wird verwendet, um einen homogenen und konsistenten Bestrahlungsprozess zu ermöglichen. Der Kern wird von einer einzigartigen Infrarot-Lichtquelle angetrieben, die einen schnellen und zuverlässigen Bestrahlungsprozess ermöglicht. Es wurde entwickelt, um unglaublich effizient zu sein und verwendet ein kompaktes Werkzeugdesign, um Platz zu sparen. Auf diese Weise kann das Asset einfach in einen beliebigen Workflow integriert werden. Das Modell ist sehr benutzerfreundlich und bietet eine einfach zu bedienende Schnittstelle, mit der der Benutzer schnell bevorzugte Einstellungen für die Laserbestrahlung auswählen kann. Darüber hinaus ermöglicht die fortschrittliche Software eine vollständige Parameterkontrolle und -überwachung. Dadurch wird sichergestellt, dass die Bildverarbeitung zuverlässig und in Übereinstimmung mit den gewünschten Einstellungen des Benutzers durchgeführt wird. ADVANCED SPIN Equipment INC SV-702 ist ein außergewöhnliches Photoresist-System, das eine effiziente, zuverlässige und fortschrittliche Methode für die Bildverarbeitung bietet. Es wurde für seine Genauigkeit und Fähigkeit gelobt, extrem hochwertige Ergebnisse zu liefern. Das einzigartige Design und die fortschrittliche Technologie ermöglichen eine einfache Integration in jeden beliebigen Workflow. Diese hochentwickelte Einheit ist sicher, eine ausgezeichnete Bestrahlung von Photolackmaterialien zu liefern und gewünschte Ergebnisse zu erzielen.
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