Gebraucht ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #9358968 zu verkaufen

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 Photoresist System ist ein revolutionäres Werkzeug für die Vorbereitung von qualitativ hochwertigen Messproben, speziell entwickelt, um mit den neuesten optoelektronischen Halbleiterbauelementen zu arbeiten. Diese Einheit verwendet fortschrittliche Spin-Beschichtungstechnologie, um es dem Benutzer zu ermöglichen, dünne Filme aus Photolack auf Substratmaterial in einer breiten Palette von Dicken mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit abzuscheiden. Die Maschine umfasst eine Schleuderbeschichtungskammer, eine Abgabestation und eine Nachbackstation, die alle in ein bestehendes Verfahren integriert werden können. Die Spin-Beschichtungskammer ist einzigartig ausgebildet, um ein gleichmäßiges Rotationsfeld zu schaffen, das eine gleichmäßige Verteilung des Resistmaterials beim Aufbringen ermöglicht. Dies ermöglicht eine verbesserte Foliendicke und Gleichmäßigkeit im Vergleich zu anderen Spin-Beschichtungsverfahren. Die Kammer besteht aus einer zweistufigen Kammer, einem Substrathalter und einer Vakuumteilkammer. Die Kammer verfügt über automatisierte Steuerventile, die präzise Drehzahl und Vakuumeinstellungen für optimale Ergebnisse ermöglichen. Die Abgabestation umfasst eine Mehrkopfpumpe, mit der präzise Mengen an Resistmaterial auf das Substrat abgegeben werden. Dieses Setup ermöglicht eine genaue Prozessüberwachung und -steuerung sowie reduziert die Möglichkeit der Laufvariation in der Resistdicke. Die Pumpe kann eine breite Palette von Viskositäten und Volumina handhaben, so dass die Anwendung von UV- und E-Strahl Widerstand. Die Nachbackstation ist so konzipiert, dass sie ein automatisiertes und einheitliches Werkzeug des Nachbacktemperaturmanagements bietet. Diese Station behält genaue Temperatureinstellungen für die Nachbackbearbeitung des Substrats bei und ermöglicht eine gleichmäßige Resistdicke und Filmhomogenität über eine Reihe von Geräten. Die Nachbackstation nutzt eine hohe Wärmeübertragungsrate, um eine schnelle Probenkühlung nach Abschluss des Nachbackvorgangs zu gewährleisten. ASSI SV-702 photoresist Asset ist ein leistungsstarkes Werkzeug für moderne Halbleiter- und optoelektronische Geräteherstellung. Das Modell ermöglicht die Anwendung von Photolack mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Genauigkeit, während die Nachbackstation eine gleichmäßige Widerstandsdicke und Homogenität ermöglicht. Dieses Gerät ist ein zuverlässiges und vielseitiges Werkzeug für die Vorbereitung von Präzisionsmessproben.