Gebraucht ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #9397636 zu verkaufen

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 Photoresist System ist eine fortschrittliche, industrielle Photoresist-Einheit, die speziell für hochvolumige Wafer-Photolithographie- und Spin-Beschichtungsprozesse entwickelt wurde. Diese Maschine ist in der Lage, präzise, hochauflösende Ergebnisse auf einer Vielzahl von gesponnen beschichteten Folien, Substraten und Materialien zu liefern. ASSI SV-702 verfügt über eine Basisplattform, die bis zu acht Spinner-Einheiten und zwei Ausrichtkerben für die zentrierte Montage von Substraten aufnehmen kann. Diese Plattform wird über ein Touchscreen-Display gesteuert und ermöglicht präzise Programmeinstellungen. Der Drehdruck und die Geschwindigkeit der Plattform können auf verschiedene Ebenen eingestellt werden, und die Plattform verfügt über eine geringe Einbauhöhe, die sie für ein breites Spektrum von Lithographieanwendungen geeignet macht. Das Werkzeug wird mit einer Vielzahl von Werkzeugen für genaue, volumenstarke Spin-Coating-Prozesse geliefert. Es umfasst einen automatisierten Spritzendemander, ein geladenes Spritzenkarussell, ein numerisches Paddel und eine ergonomisch gestaltete Spinneinheit. Der Spritzendemander ermöglicht es dem Benutzer, die genaue Anzahl der Substrate und Spins auszuwählen, die er benötigt, während das Spritzenkarussell eine Vielzahl von Spritzen beherbergt, so dass verschiedene Arten von Photolack im gleichen Lauf verwendet werden können. Inzwischen bietet das numerische Paddel eine präzise Steuerung der Geschwindigkeit der Substratbewegung sowie eine Rückmeldung der Prozesszeit. Das Gerät verfügt außerdem über leistungsstarke Fotolackverarbeitungswerkzeuge wie eine Spin-Chamber, einen Maskenlader und einen digitalen Steuerungstimer. Die Spinnkammer bietet eine saubere Umgebung für die Photolackverarbeitung, die ein schnelles Be- und Entladen des Substrats sowie den Schutz des Photolacks vor der Umgebung ermöglicht. Der Maskenlader ermöglicht eine präzise, gleichmäßige Beladung des Photolacks auf das Substrat und ist in der Lage, mehrere Substrate pro Lauf zu handhaben. Der digitale Steuerungs-Timer bietet Echtzeit-Überwachung der Photoresist-Verarbeitungszeiten, so dass der Benutzer die gleichen Einstellungen für mehrere Durchgänge wiederholen oder sequenzieren kann. Zusammen ermöglichen diese Funktionen ADVANCED SPIN Model INC SV-702 Photoresist Equipment präzise, volumenstarke Ergebnisse für eine Vielzahl von Photolithographie-Prozessen. Das System ist schnell, flexibel und einfach zu bedienen und somit ideal für Wafer-Fabs, Gießereien, integrierte Gerätehersteller und Universitäten.