Gebraucht AIO 603-4 Sonic Fog #9124425 zu verkaufen

AIO 603-4 ist eine Variante des Photoresist-Systems von Sonicate, das für qualitativ hochwertige Lithographie in einem Forschungsumfeld entwickelt wurde. Es ist in der Lage, präzise Funktionen mit einer extrem kleinen Linienbreite bis zu 10nm zu produzieren, so dass es für Submikron-Musterung in Anwendungen wie MEMS und Displays verwendet werden kann. Die Einheit umfasst eine Laserquelle, die mit einer Wellenlänge von 248 nm emittiert, die auf eine Substratplatte gerichtet ist. Der Laser wird mit extrem hohen Geschwindigkeiten abgeschaltet, um die Belichtung des Photolacks zu steuern. Der Laser wird moduliert, um mehrere Durchläufe unterschiedlicher Wellenlängen und Intensitäten zu ermöglichen, wodurch der Benutzer die Auflösung des gemusterten Bereichs optimieren kann. Die Einheit ist auch in der Lage, sehr niedrige Energie Belichtungsmuster durchzuführen, so dass eine nichtlineare Strukturierung ermöglicht, so dass große Merkmale mit mehr Intensität gemustert werden können, während kleine Merkmale mit einer geringeren Intensität gemustert werden können. AIO 603-4 hat auch eine Antireflexbeschichtung auf der Substratplatte, die hilft, die Streuung des Laserstrahls zu reduzieren, hilft, die Strahlen fokussiert zu halten und schmalere Linienbreiten zu ermöglichen. AIO 603-4 kommt auch mit einer Präzisions-Z-Stufe, die verwendet wird, um die Substratplatte in Bezug auf die Laserquelle zu positionieren. Dadurch wird sichergestellt, dass der Laserstrahl korrekt auf das Substrat ausgerichtet ist, um eine präzise, wiederholbare Strukturierung zu gewährleisten. Das Gerät ist mit einem automatisierten System zur Belichtung und Entwicklung des Photolacks ausgestattet, das hilft, den Lithographieprozess schnell und präzise zu halten. Die Entwicklungs- und Strippfähigkeit ermöglicht die Entwicklung mehrerer Muster auf dem Substrat ohne manuelle Reinigung. Abschließend bietet AIO 603-4 Sonic Fog eine hervorragende Musterung für hochwertige Lithographie in einem Forschungsumfeld. Seine Fähigkeit, Funktionen mit einer extrem kleinen Linienbreite zu produzieren, sowie seine automatisierte Belichtung und Entwicklung System macht es ideal für Anwendungen, die submicron Musterung.