Gebraucht AIO SF 600 #9139571 zu verkaufen

AIO SF 600 ist eine Photolackausrüstung, die für die Entwicklung sensibler und großflächiger lithografischer Prozesse entwickelt wurde. Es eignet sich sowohl für den Einsatz mit positiven als auch negativen Photoresists und ermöglicht die präzise Entwicklung von Metallmustern, Verdrahtungen und Photoätzprozessen. Das System besteht aus vier verschiedenen Einheiten, dem Entwickler, der Belichtungseinheit, der Spüleinheit und der Vakuumkammer. Der Entwickler ist ein zweistufiger Prozess. In der ersten Stufe wird die Photolacklösung mit dem Entwicklerkonzentrat vermischt und auf das Substrat aufgesprüht. Dadurch entsteht eine effektive Entwicklerkonzentration, die dafür sorgt, dass der Photolack richtig entwickelt wird. Die zweite Stufe ist der Benetzungsschritt, der notwendig ist, um eine gleichmäßige und homogene Verteilung des Entwicklers über das Substrat zu gewährleisten. Die Belichtungseinheit gibt dem Fotolack die notwendige Belichtung durch eine Maske, so dass eine Schaltung strukturiert oder ein korrekter Photoätzprozess angewendet werden kann. Seine abstimmbaren Quellen und kundenspezifischen Belichtungszeiten garantieren kurze und einheitliche Belichtungen für hochpräzise Ergebnisse. Die speziell entwickelte Objektiveinheit bietet eine homogene Beleuchtung für maximale Musterdefinition. Die Spüleinheit ist für eine maximale Photolackentfernung ausgelegt, wobei ein Tunneln und Ansammeln von Rückständen verhindert wird. Seine intelligente Steuerung sorgt für eine präzise Einstellung von Spülzeit, Druck und Temperatur für eine optimale Photolackentfernung. Das Gerät ist mit einer eingebauten Rezirkulationsspülwassermaschine für maximale Effizienz und Nutzung ausgestattet. Die Vakuumkammer trägt dazu bei, dass der Photolack während des gesamten Entwicklungsprozesses aus dem gewünschten strukturierten Bereich herausfließt. Das eingebaute einstellbare Druck- und Heizwerkzeug sorgt für eine konsistente und genaue Vakuumerzeugung. Die einstellbare Heizung hilft, den Wärmefluss des Photolacks einzustellen, um den Photolack widerstandsfähiger gegen Adhäsion oder andere physikalische Phänomene zu machen. SF 600 ist ein hochentwickeltes Photoresist-Asset und bietet Präzision und Genauigkeit, die jedes Lithographie- oder Ätzprojekt abschließen. Seine Eigenschaften ermöglichen eine qualitativ hochwertige Entwicklung von Metallmustern, Verdrahtungen und Photoätzprozessen für eine Vielzahl von Anwendungen.