Gebraucht AIR BROWN SPD160RN #9258130 zu verkaufen

AIR BROWN SPD160RN photoresist ist ein automatisiertes System, das für überlegene Leistung in modernen optischen Lithographiesystemen konzipiert ist. Es bietet eine hochauflösende und hochgenaue Resist-Schicht, die zum Vergleich von Maskendesigns und Mustern für anspruchsvolle Advanced Integrated Circuit (IC) -Herstellungsverfahren verwendet werden kann. Diese Photoresist-Einheit enthält einen fortschrittlichen und umfassenden Satz von Photoresist-Schichtmaterialien und -geräten wie die fortschrittliche Substratübertragungsstufe (ASTS), die eine präzise Steuerung und Ausrichtung des Wafers in der Fotolackmaschine sowie ein fortschrittliches Fotolacklieferwerkzeug ermöglicht (ADDS), die in der Lage ist, eine konsistente und genaue Resistschicht für eine zuverlässige Strukturierung von IC-Geräten zu liefern. SPD160RN photoresist-Asset umfasst auch eine Reihe spezialisierter Technologien, um eine überlegene Leistung und Zuverlässigkeit der Durch-Raum-Belichtung zu gewährleisten. Das schließt fortgeschrittene Eigenschaften wie Hochleistungsreinigungstechnologie (HCT) ein, die einen Hochleistungsreinigungsprozess an reduzierten Kosten, Hopräzisionsbedeckungstechnologie (HOT) ermöglicht, die Hogenauigkeitsmuster und Eigenschaften und Laseranordnungstechnologie (LAT) sichert, die genaue Anordnungsoperationen mit der höheren Geschwindigkeit und Genauigkeit durchführt. Darüber hinaus enthält das Modell auch eine optimierte Formanpassung und automatische Korrektur der Ausrichtung (OMAC), die zur Verbesserung der Genauigkeit des Photolackmusters beiträgt. Darüber hinaus verwendet diese Photoresist-Ausrüstung auch fortschrittliche optische Linsensysteme, um sicherzustellen, dass das Licht an jedem Pixel eine maximale Intensität hat und bei jeder Belichtung eine höhere Genauigkeit und Gleichmäßigkeit liefert. Dies ermöglicht auch eine verbesserte Steuerung der optischen Parameter, um eine überlegene Auflösung für anspruchsvolle photolithographische Anwendungen zu erreichen. Das System ist auch mit fortschrittlichen Lithographie-Tools und Software ausgestattet, wie eine Advanced Modeling Suite (AMS), die den Photolithographie-Prozess optimieren soll, sowie die erweiterte Muster-Performance-Monitoring-Einheit (APPM), die automatisch die Musterqualität überprüft und Fehler erkennt. Weitere Merkmale in der Maschine sind schnelle Ausrichtungsprozesse, Optimierungsalgorithmen zur Verbesserung der Mustergenauigkeit sowie flexo-LIGA-fähige Unterstützung, um eine genaue Mustererzeugung im Nanometermaßstab sicherzustellen. Abschließend wurde das Photoresist-Tool AIR BROWN SPD160RN entwickelt, um mit seinen umfassenden Funktionen und Technologien eine hervorragende Leistung in optischen Lithographiesystemen zu bieten. Seine fortschrittlichen Materialien, Geräte und Software bieten eine Photolackschicht, die eine zuverlässige und genaue Strukturierung von IC-Geräten sowie eine überlegene Auflösung und Gleichmäßigkeit für anspruchsvolle Photolithographieanwendungen ermöglicht.