Gebraucht ALLTEQ 1520 #101471 zu verkaufen

ALLTEQ 1520 Photoresist Equipment ist ein zuverlässiges, benutzerfreundliches System zur Ausgabe von Photoresist. Es ist für die Entwicklung und Ätzung von Fotolackfilmen bei der Herstellung von Siliziumscheiben, Leiterplatten und anderen mikroelektronischen Geräten konzipiert. Das Gerät umfasst eine Kühlplattform für verbesserte Prozesswiederholbarkeit, Präzisionsdruckregelung für erhöhte Genauigkeit und einen Controller für erhöhte Produktivität. 1520 verfügt über eine verstellbare, ergonomische Plattform und einen stationären Becherzuführer, mit dem Benutzer die Höhe und Richtung der Becherlieferung leicht anpassen und die Hublänge und -tiefe steuern können. Die Maschine verfügt auch über eine modulierte Umwälzpumpe und eine Auswahl von zwei Dosiersystemen, die eine präzise Druckregelung und eine genaue und konsistente Flüssigkeitszufuhr bieten. Darüber hinaus ermöglicht das Werkzeug die Verwendung von hochmolekularen Polymeren, die Verträglichkeit mit einer Vielzahl von Photolackbeschichtungen bieten. ALLTEQ 1520 ist zudem mit einer grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die den Aufbau und die Steuerung von Maschinenfunktionen ermöglicht. Die intuitive Benutzeroberfläche ermöglicht es, die gewünschten Parameter, einschließlich Temperaturbereich und Hubfrequenz, schnell zu programmieren und die Pumpenkurven anzupassen. Das Asset verfügt auch über eine einfach zu bedienende, Vier-Tasten-Bedienung und kommt mit einem akustischen Alarm, um anzuzeigen, wann der Prozess abgeschlossen ist. 1520 soll energieeffizient sein, Energieverschwendung beseitigen und Energieeinsparungen gegenüber ähnlichen Maschinen ermöglichen. Das Modell ist sehr langlebig, mit einem Festkörper-Design und geschweißten Stahlrahmen, so dass es ideal für den industriellen Einsatz. Die Ausrüstung ist auch relativ einfach zu installieren und verfügt über einen modularen Aufbau, so dass zusätzliche Funktionen und Upgrades jederzeit hinzugefügt oder ausgetauscht werden können. Insgesamt ist ALLTEQ 1520 Photoresist System eine effiziente, benutzerfreundliche Einheit zur Ausgabe von Photolack bei der Herstellung von mikroelektronischen Geräten. Mit seiner einstellbaren Plattform, der präzisen Drucksteuerung und der intuitiven Benutzeroberfläche bietet die Maschine eine verbesserte Genauigkeit, Produktivität und Zuverlässigkeit für alle Arten von Photolackanwendungen.