Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Raider ECD #9197689 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Raider ECD ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die überlegene Photolithographie-Anwendungen ermöglicht. Dieses System basiert auf einem positiven Ton, elektronenstrahlempfindliche Photoresist-Einheit, die überlegene Auflösung, niedrige Defektivität und verbesserte Beständigkeit gegen alkalische Entwicklungslösungen bietet. Es ist für die Performance einer Vielzahl von Front-End- und Back-End-Verarbeitungsanwendungen optimiert. Der von AMAT Raider ECD verwendete Photoresist besteht aus einem positiven Widerstandsmaterial aus einem silikonartigen Harz, PMMA und anderen Additiven. Der Resist ist empfindlich auf Elektronenstrahlen und extrem empfindlich auf Belichtungsprozesse wie ultraviolettes Licht, Röntgenstrahlen und Elektronenstrahlen. Der Resist wird typischerweise auf einem Halbleiterwafer oder einem anderen Substrat mit einem Spin-Coating-Verfahren abgeschieden. Die Photolackmaschine hat zwei Hauptfunktionen: erstens den Kontakt mit der Zielschicht herzustellen und zweitens das darunter liegende Substrat während der Verarbeitung zu schützen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Raider ECD kann beide Funktionen durch sein zweischichtiges Werkzeug erfüllen. Die erste Schicht ist als Basisresist bekannt, während die zweite Schicht als Bindungsschicht bezeichnet wird. Der Basisresist bietet Schutz bei der Verarbeitung und reduziert das Reflexionsvermögen. Es dient als starke mechanische und chemische Barriere, um das darunter liegende Substrat vor Kontamination und Beschädigung durch Exposition gegenüber Reinraumumgebungen wie Säure, Base, Lösungsmittel, Ätzmittel usw. zu schützen. Der Basisresist wirkt auch als Klebstoff für die Haftschicht, die nach Belichtung mit einem Photoresist gebildet wird. Die Bindungsschicht ist ein unbeeinflusster Teil der Photolackschicht, der nach Beendigung des Musterprozesses an der Zielschicht befestigt bleibt. Diese Schicht hilft, Kontakt- und Oxidmaskierungsfehler zu minimieren, was eine überlegene Auflösung und überlegene Haftung auf dem Substrat ermöglicht. Raider ECD-Asset bietet überlegenen Widerstand und Haftung zu einer Vielzahl von Substraten und Wafer-Technologien. Es hat auch eine ausgezeichnete Kantendefinition und verbesserte nach der Entwicklung Sauberkeit und Gleichmäßigkeit. Das Modell ist auch extrem schnell, zeigt überlegene Geschwindigkeit und Durchsatz zu anderen Photolacksystemen. AMAT/APPLIED MATERIALS Raider ECD-Ausrüstung ist entworfen, um die Leistung einer Vielzahl von Prozessen in Halbleiter- und MEMS-Bauelement Unterauftrag zu optimieren. Es kann mit einer Reihe von Materialien verwendet werden, einschließlich Kupfer, Aluminium und silic Faraday Käfige, Siliziumnitrid und Zinnoxide. Das System ist auch mit galvanischen Prozessen kompatibel und liefert überlegene Ergebnisse in Bezug auf Füllung, Planheit und Gleichmäßigkeit. Abschließend ist AMAT Raider ECD-Einheit eine fortschrittliche Photoresist-Lösung, die eine überlegene Auflösung und niedrige Defektivität sowie eine verbesserte Beständigkeit gegen alkalische Entwickler bietet. Diese Maschine ist eine gute Wahl für die Lithographie-Verarbeitung, die überlegene Kantendefinition, überlegene Geschwindigkeit und Durchsatz sowie ausgezeichneten Widerstand und Haftung auf einer breiten Palette von Substraten ermöglicht.