Gebraucht AND ASP-2000 #293808000 zu verkaufen

Hersteller
AND
Modell
ASP-2000
ID: 293808000
Weinlese: 2007
Track system 2007 vintage.
AND ASP-2000 ist eine leistungsfähige UND zuverlässige Photolackausrüstung, die von AND Corporation entwickelt wurde, um die Ätz- UND Lithographie-Anforderungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen. Dieses fortschrittliche System nutzt fortschrittliche Foto-Resist Formulierungstechnologie, um konsistente, zuverlässige Ergebnisse in einer sicheren und effektiven Weise zu produzieren. ASP-2000 Einheit arbeitet auf einer ausgeklügelten Maschine mit Flüssigkeitsnivellier- UND Trockenätztechnologien, um die Oberflächen von Halbleitersubstraten zu ätzen und zu lithographieren. Das Photoresist-Tool ist modular aufgebaut UND kann problemlos für eine Vielzahl von Kundenanforderungen UND Anwendungen konfiguriert werden. Zu den Hauptmerkmalen des Asset gehören die Mehrwellenlängenbelichtungsfähigkeit, das automatische Leveling UND ein Photoresist-Prozessor mit integriertem Wafer-Manipulationsmodell. Die Multiwellenlängenbelichtungsfähigkeit von AND ASP-2000 Geräten ermöglicht eine genaue Belichtung von Substraten, da sie in der Lage ist, UV-Strahlung von drei verschiedenen Wellenlängen zu emittieren, die in zwei vorprogrammierten Schritten gesteuert wird. Dies ermöglicht gewünschte Ergebnisse auf verschiedensten Substraten. Die fortschrittliche automatische Nivelliertechnologie innerhalb der Maschine nivelliert automatisch die ebene Oberfläche des Wafers, um eine homogene Belichtung UND Ätzen von Materialien zu gewährleisten. Der Photolackprozessor innerhalb des Systems ist ebenfalls vollständig mit einer Wafer-Manipulationseinheit integriert, was eine einfache UND präzise Handhabung der Wafersubstrate ermöglicht. Die Fähigkeit des Prozessors, mehrere Substrate zu handhaben, erhöht auch seine Benutzerfreundlichkeit. Darüber hinaus verfügt die Maschine auch über erweiterte Sicherheitsfunktionen wie automatische Abschaltung bei Störungen. ASP-2000 Tool ist ein unglaublich leistungsfähiges UND zuverlässiges Photoresist-Asset, das für die anspruchsvollsten Ätz- UND Lithographie-Anforderungen der Halbleiterindustrie-Kunden entwickelt wurde. Seine fortschrittliche Multi-Wellenlängen-Belichtung, Auto-Leveling UND integrierte Wafer Manipulation Modell machen es eine ideale Wahl, bietet die höchste Konsistenz und Sicherheit.
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