Gebraucht AND ASP-2000 #9373109 zu verkaufen

AND ASP-2000
Hersteller
AND
Modell
ASP-2000
ID: 9373109
Wafergröße: 2"
(2) Coater / (3) Developer systems, 2".
AND ASP-2000 Photoresist Equipment ist eine automatisierte UND prozessgesteuerte Lösung zur Replikation der Produktion optoelektronischer Produkte mit hoher Genauigkeit UND Geschwindigkeit. Es ist entworfen, um feine Linien UND Muster auf Halbleitersubstraten zu produzieren, ohne dass manuelle Techniken wie Lithographie erforderlich sind. ASP-2000 System arbeitet, indem es einen Fotolackfilm einem gerichteten, gesteuerten Licht aussetzt, um das gewünschte Muster zu entwickeln. UND ASP-2000 verfügt über eine Vielzahl fortschrittlicher Technologien, um zuverlässige UND genaue Ergebnisse zu gewährleisten. Es unterstützt mehrere Expositionstechnologien, einschließlich optischer Exposition, Hochwasserexposition, Infinity-Exposition UND rezeptgesteuerte Exposition. Darüber hinaus ist es auch mit mehreren Steuerungssystemen ausgestattet, wie einer Vakuumeinheit, einer Positioniermaschine, einem Controller UND einem Echtzeit-Plattenüberwachungswerkzeug. ASP-2000 Asset verwendet schlüsselfertigen Betrieb, was bedeutet, dass der Benutzer nur die gewünschten Parameter auswählen muss, um den Prozess zu beginnen. Es verfügt über eine einfach zu bedienende Benutzeroberfläche UND eine umfassende Bibliothek mit vorprogrammierten Rezepten, die ein schnelles Einrichten UND Starten ermöglicht. Darüber hinaus bietet das Modell auch eine Selbstdiagnose für optimale Leistung. AND ASP-2000 kann für eine Vielzahl von optoelektronischen Anwendungen verwendet werden, wie hochauflösende Musterreplikation, Geräteherstellung, Waferregistrierung, Wellenleiterherstellung UND optische Maskendesign. Darüber hinaus bietet es überlegene Kompatibilität mit einer breiten Palette von Photolackmaterialien, einschließlich AZ, Shipley, EKC, Rohm Haas usw. ASP-2000 Ausrüstung verfügt auch über fortschrittliche Prozesskontrolltechnologie. Dazu gehören mehrere Prozeßsteuerungsparameter wie kürzeste Belichtungszeit, längste Belichtungszeit, Peak Hold, Burst AND Post Exposure Prozesse, die alle optimiert sind, um präzise Ergebnisse zu gewährleisten. Mit seinen Prozesssteuerungsfähigkeiten kann das System auch verschiedene Arten von Fotolackfilmen aufnehmen UND sogar mögliche Prozessfehler erkennen und somit einen zuverlässigen UND reproduzierbaren Betrieb ermöglichen. Insgesamt ist AND ASP-2000 Photoresist Unit eine zuverlässige UND genaue automatisierte Lösung für eine präzise Replikation optoelektronischer Geräte. Es wurde entwickelt, um Industrie 4.0-Technologien zu erfüllen und gleichzeitig seine eigenen fortschrittlichen Technologien zu nutzen, um weitere optimale Ergebnisse zu erzielen.
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