Gebraucht AND ASP-2000LX #9205491 zu verkaufen

AND ASP-2000LX
ID: 9205491
Wafergröße: 2"
Weinlese: 2010
Track systems, 2" 2010 vintage.
AND ASP-2000LX ist eine hochpräzise, vollautomatisierte Photoresist-Ausrüstung für den industriellen Einsatz. Es ist ein einzigartiges System, das Belichtung der Resistbeschichtung, Post-Exposure-Backen UND Entwicklung zu einem einzigen vollautomatisierten Betrieb kombiniert. Das Gerät wurde entwickelt, um den Produktionsprozess zu optimieren UND die Produkterträge durch kontinuierliche Überwachung der Prozessparameter UND Anpassungen in Echtzeit zu erhöhen, um eine optimale Produktqualität zu gewährleisten. Die Maschine besteht aus zwei Hauptkomponenten: der Belichtungseinheit UND der Prozesssteuerung. Die Belichtungseinheit ist mit einer präzisionsgesteuerten Laserdiode ausgestattet, die so programmiert werden kann, dass Belichtungszeiten UND Leistungsstufen über einen weiten Bereich eingestellt werden. Dies ermöglicht eine Genauigkeit von mehr als einem Prozent in der Resistdickensteuerung UND das Werkzeug kann programmiert werden, um eine Vielzahl von verschiedenen Photolackmaterialien zu handhaben. Die Prozesssteuereinheit ist das Gehirn des Vermögenswertes UND ist beauftragt, die verschiedenen Operationen zu verwalten, die der Exposition folgen. Es enthält einen hochpräzisen Backofen für den Backprozess nach der Belichtung, ein Vision-Modell zur genauen Bestimmung der optimalen Backzeiten nach der Belichtung UND eine automatisierte Entwicklungsausrüstung zur schnellen Entfernung von belichtetem UND unbelichtetem Photoresist ohne Beschädigung des Substrats. Darüber hinaus umfasst ASP-2000LX eine umfassende Software-Suite zur Steuerung der verschiedenen Funktionen des Systems UND zur Überwachung, Aufzeichnung UND Analyse von Prozessdaten. Diese Software ermöglicht es Benutzern auch, Belichtungsprofile, Ofentemperatur UND Entwicklungsparameter basierend auf der Art UND Größe des verwendeten Substrats anzupassen. Insgesamt ist AND ASP-2000LX Photoresist Unit eine fortschrittliche industrielle Lösung, die Präzisionssteuerung über den gesamten Photoresist-Prozess bietet. Es ermöglicht Anwendern, die Produktausbeuten zu verbessern UND die Belichtungszeiten zu reduzieren und gleichzeitig die Genauigkeit der Ergebnisse UND gleichbleibende Qualität zu gewährleisten.
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