Gebraucht AND ASP-2000LX #9205492 zu verkaufen

AND ASP-2000LX ist ein modernes Photoresist-Gerät, das für die Herstellung fortschrittlicher elektronischer Komponenten wie integrierte Schaltungen, optoelektronische Komponenten, Displays UND mehr entwickelt wurde. Im allgemeinen führen Photoresistsysteme den gleichen Basisprozess durch; selektives Aufbringen eines Maskierungsmaterials auf ein Substrat, um eine strukturierte Schicht für nachfolgende Prozesse zu erzeugen. ASP-2000LX geht noch einen Schritt weiter, mit einer fortschrittlichen Strahlschreibtechnik, die eine extrem präzise UND genaue Strukturierung des Fotolacks ermöglicht. Dies geschieht durch Verwendung eines Laserstrahls, um das gewünschte Muster genau abzutasten UND in den Fotolack einzuätzen. Die Genauigkeit des Maskierungsprozesses wird durch die Aufnahme eines Direct Viewing Mask Alignment (DMVA) -Systems weiter erhöht, das in Verbindung mit der Strahlschreibtechnik arbeitet, um weiter sicherzustellen, dass das geätzte Muster präzise UND präzise auf innerhalb von 0,1 Mikrometern ist. Das Gerät verfügt außerdem über eine variable Seitenverhältnisfähigkeit, die es dem Benutzer ermöglicht, die Dicke der Photolackschicht genau abzustimmen. Neben der präzisen Strukturierung bietet AND ASP-2000LX auch eine sehr vielseitige Plattform für die Photolackverarbeitung. Die Maschine kann mit einer Reihe von verschiedenen Photoresist-Formulierungen ausgestattet werden, von Standard-Negativ-Photoresist zu Positiv-Photoresist, UND eine Vielzahl von zusätzlichen Additiven können in die Formulierung aufgenommen werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen. Schließlich ist ASP-2000LX äußerst benutzerfreundlich UND beinhaltet eine umfassende Steuerungsoberfläche mit erweiterten Diagnose- UND Überwachungsfunktionen. Dadurch wird sichergestellt, dass Bediener schnelle UND einfache Anpassungen am Werkzeug vornehmen können UND die erforderlichen Parameter für ihren spezifischen Photolackprozess programmieren. Insgesamt ist AND ASP-2000LX ein unglaublich fortschrittliches UND hochpräzises Photoresist-Asset, das eine vielseitige UND benutzerfreundliche Plattform zur Erstellung komplizierter Muster in einer Reihe von Substraten bietet. Mit seiner hochmodernen Strahlschreibtechnik UND fortschrittlicher Diagnostik ist das Modell eine ideale Wahl für die Herstellung fortschrittlicher elektronischer Komponenten.