Gebraucht AND ASP-2000LX #9375092 zu verkaufen

AND ASP-2000LX ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung für die Verarbeitung von Großserienproduktion von Mikro- UND MEMS-Komponenten. Dieses System bietet höchste Genauigkeit UND Wiederholgenauigkeit für die Herstellung von Komponenten mit einer Mindesteigenschaftsgröße von 7 µm. ASP-2000LX nutzt eine optimierte Dual-Station-Dispense-Einheit, die zwei gestapelte Dispense-Köpfe für eine präzise Dual-Dispense von Photoresist-Material verwaltet. Diese Maschine verfügt auch über einen fortschrittlichen hochauflösenden Bildgeber mit nahezu beugungsbegrenzter Auflösung. Mit 8x UND 16x Zoomoptik erreicht AND ASP-2000LX eine detaillierte Abbildung von Photoresist-Funktionen, die bis zu 7 µm groß sind. ASP-2000LX verfügt über eine integrierte Bibliothek mit Photoresist-Parametereinstellungen, die die Auswahl des Widerstands vereinfacht UND eine automatische Parameterbelastung basierend auf dem Photoresist-Typ ermöglicht. Diese Bibliothek speichert auch verschiedene Rezepte, wie vorprogrammierte Entwicklungszeiten, so dass Benutzer schnell auf verschiedene Substratmaterialien UND Fertigungsparameter einstellen können. Integrierte Wafer-Ausrichtungswerkzeuge verwenden ein hochauflösendes Ausrichtungsfeld, um Fotolackmuster bei Bedarf genau auf den Wafer zu platzieren. Eine automatisierte Fehlerkorrektur ermöglicht es Benutzern, den Fokus der Fotolackbilder anzupassen, um Fehler auszugleichen UND sicherzustellen, dass die Bilder genau auf den Wafer übertragen werden. Das Photoresist-Bearbeitungswerkzeug bietet auch eine einheitliche Durchprismenkommunikation, wobei alle relevanten Daten direkt an Maschinen UND/oder Systeme zur Netzwerkintegration gesendet werden. Diese Funktion ermöglicht eine erweiterte Steuerung der Photolackverarbeitungsanlage, während die Photolackstufen überwacht werden. AND ASP-2000LX ist für die Serienfertigung von Bauteilen mit hoher Genauigkeit UND Wiederholbarkeit ausgelegt. Die erweiterten Funktionen UND Funktionalitäten dieses Photoresist-Modells ermöglichen eine präzise Verarbeitung von Mikro- UND MEMS-Komponenten mit einer Mindesteigenschaftsgröße von 7 µm und sind somit eine optimale Wahl für die volumenstarke Herstellung von Komponenten in einer Vielzahl von Branchen.