Gebraucht AND ASP-2000LX #9375095 zu verkaufen

AND ASP-2000LX Photoresist Equipment ist ein hochmodernes Photolithographiesystem zur hochpräzisen Mikroherstellung von Halbleitermaterialien UND anderen empfindlichen Produkten. Diese Lithographieeinheit ist in der Lage, Strukturen bis zu 0,5 Mikrometer (0,0000002 Zoll) zu produzieren. Die Maschine verfügt über mehrere benutzerfreundliche Funktionen, wie mehrschichtige Belichtung, die den Prozess durch die gleichzeitige Belichtung mehrerer Schichten beschleunigt, sowie erweiterte Ausrichtung Registrierungsmechanismus. ASP-2000LX Design des Tools verwendet eine proprietäre Doppellichtquelle. Die Anlage ist mit einer ungefilterten Quecksilberlampe UND einem gefilterten LED-Array ausgestattet, das ein breites Lichtspektrum bietet. Diese beiden Lichtquellen können getrennt oder gemeinsam in einer Vielzahl von Mehrschichtbelichtungen eingesetzt werden. Das Design mit zwei Lichtquellen erhöht den Durchsatz UND den Durchsatz und bietet gleichzeitig eine höhere Genauigkeit UND Auflösung in seinem Photolithographie-Prozess. Die mehrschichtige Belichtung wird durch präzise Ausrichtungsregistrierung ermöglicht. Dieser Mechanismus verwendet eine Kombination aus Sehausrichtung, automatischer XY-Stufe, Laserinterferometer UND Kantenerkennungsmethoden, um eine genaue Ausrichtung zwischen den mehreren Schichten zu gewährleisten. Die automatische XY-Stufe wird auch mit einem Präzisionsregler zur exakten Positionierung von Schichtkanten geliefert. Neben der hochpräzisen Mehrschichtbelichtung ist das Modell AND ASP-2000LX mit einer fortschrittlichen Fotoentwicklungsausrüstung ausgestattet, die eine automatisierte Verarbeitung von Fotoresistbildern ermöglicht. Dazu gehören automatisierte Photochemie, Resistentwicklungsphase UND Nachentwicklungsprüfung. Das automatisierte System sorgt dafür, dass jede Schicht einheitlich UND mit gleichbleibend hoher Auflösung entwickelt wird. Darüber hinaus ist ASP-2000LX Gerät mit einem integrierten Datenlogger ausgestattet. Dieser zentral gelegene Datenlogger ermöglicht die einfache UND sichere Erfassung von Testergebnissen UND Entwicklungsdaten. Dies gibt den Betreibern die Möglichkeit, die Prozessleistung zu überprüfen UND zu analysieren UND bessere Prozessparameter zu entwickeln. UND ASP-2000LX Photolackmaschine ist ein leistungsfähiges UND zuverlässiges Werkzeug zur präzisen Mikrofabrikation von empfindlichen UND Halbleitermaterialien. Mit seiner fortschrittlichen Dual-Light-Source-Technologie, der mehrschichtigen Belichtungsfähigkeit, der Präzisionsausrichtungsregistrierung, dem fortschrittlichen Fotoentwicklungs-Tool UND dem On-Board-Datenlogger ist dieses Asset ein äußerst kostengünstiges UND effizientes Lithographiemodell zur Herstellung hochwertiger Photoresist-Produkte.