Gebraucht AND ASP-2000LX #9375096 zu verkaufen

AND ASP-2000LX ist eine Standard-Photoresist-Ausrüstung, bestehend aus einem Advanced Photoimaging System (APS) UND einer Laserbelichtungseinheit (LEU). Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das bei der Herstellung von elektronischen Bauelementen UND Mikroelektronik verwendet wird. ASP-2000LX ist eine ideale Lösung, um komplexe Resistmuster auf Waferoberflächen zu strukturieren. Diese Photoresist-Einheit bietet eine schnelle UND genaue Möglichkeit, den Wafer mit hoher Präzision UND Wiederholbarkeit zu mustern. Die Maschine ist mit einer 4 Megapixel USB2 Kamera ausgestattet, die eine gute Bildauflösung UND ausgezeichnete Belichtungsgenauigkeit ermöglicht. Der Anwender kann bis zu sechs verschiedene optische Masken mit einer maximalen Größe von 5.5x6.8 "für flexible Maskierungsmuster auswählen. AND ASP-2000LX ist mit einer Hochleistungs-Laserquelle mit Wellenlängenvariabilität von 532 bis 1060 nm ausgestattet. Der Laser belichtet das Resistmuster auf dem Wafer mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit von ± 2µm UND enger Registrierungskontrollgenauigkeit von innerhalb ± 10µm. Das Tool bietet auch verschiedene Belichtungsmodi für verschiedene Wafer. Der Laser ist hochgradig konfigurierbar UND kann sowohl für einzelne UND mehrere Belichtungseinstellungen vorprogrammiert werden. ASP-2000LX bietet auch eine nahtlose Integration von Verarbeitungseinheiten wie Expose, Develop UND Align. Mit der Belichtungseinheit wird ein dünner Photolackfilm auf die Waferoberfläche aufgebracht. Die Entwicklungseinheit wird verwendet, um den belichteten Photoresist mit Chemikalien zu entfernen, UND die Align-Einheit wird verwendet, um den Ausrichtungsfehler zwischen dem Wafer UND der Maske zu erkennen, um die Belichtungsgenauigkeit zu gewährleisten. Diese Photolackanlage bietet gegenüber herkömmlichen lithographischen Verfahren mehrere Vorteile. Das Modell ist kompakt UND ermöglicht eine schnelle Einrichtung UND Ausreißzeiten. Prozesse können innerhalb von 15 Minuten abgeschlossen werden UND die Waferoberflächenqualität ist im Vergleich zur Laserlithographie deutlich verbessert. UND ASP-2000LX widersteht UND entwickelt verschiedene Materialien UND Größen, so dass es eine vielseitige, flexible Ausrüstung. Darüber hinaus benötigt das System keine zusätzlichen Chemikalien UND ist in der Lage, die Produktion zu automatisieren. ASP-2000LX ist eine zuverlässige, Standard-Photoresist-Einheit, ideal für komplexe, hochpräzise Resistmuster. Es bietet schnelle Einrichtung, hohe Auflösung, ausgezeichnete Wiederholbarkeit UND automatisierte Produktionsmöglichkeiten. Es eignet sich sowohl für kleine UND große Wafer, UND kann verwendet werden, um eine breite Palette von komplexen Mustern mit einer hohen Genauigkeit zu schaffen.