Gebraucht AND ASP-2000X #9373110 zu verkaufen

UND ASP-2000X Photoresist Equipment ist ein Schlüsselelement bei der Herstellung von hochpräzisen mikroelektronischen Komponenten. Das System besteht aus einer fortschrittlichen, hochpräzisen Belichtungseinheit, einer chemischen Fördermaschine UND einer Vakuumspinnplattform, die zusammen eine umfassende nasschemische Lösung für die Verarbeitung kleiner mikroelektronischer Komponenten bieten. Das Belichtungswerkzeug verwendet eine Elektronenstrahleinheit, um die optimalen Werte von UV-Licht UND Chemikalien sehr genau den rechten Bereichen des Substrats auszusetzen. Das Asset verfügt über die Möglichkeit, submikrongroße Funktionen mit extremer Genauigkeit UND Wiederholbarkeit zu mustern. Das chemische Fördermodell pumpt Chemikalien präzise in das Substrat mit der richtigen zeitlichen UND Genauigkeit. Dadurch wird sichergestellt, dass die Chemikalie in der richtigen Form UND in der richtigen Konzentration ist, um effektiv zu sein. Die Vakuumspinnplattform dient dazu, das Substrat sehr langsam zu spinnen. Dadurch wird sichergestellt, dass die Chemikalien gleichmäßig über die Oberfläche des Substrats UND verteilt werden, dass die richtige Belichtungsmenge erreicht wird. Das Gerät bietet eine Reihe von Optionen zur Definition der chemischen UND Expositionsparameter. Das System ist auch in der Lage, mehrere Chemikalien UND Belichtungszeiten, um dreidimensionale Merkmale im Substrat zu schaffen. Das Gerät ist in der Lage, kleine Funktionen bis zu 0,1 Mikrometer zu schaffen. ASP-2000X ist eine hochentwickelte Photolackmaschine, die zur Herstellung kleiner mikroelektronischer Bauelemente eingesetzt werden kann. Es bietet eine genaue UND wiederholbare Lösung für die Strukturierung sowie eine vielseitige UND flexible Palette von Optionen zur Kontrolle der Exposition UND der chemischen Abscheidung. Das Werkzeug ist in der Lage, kleine Funktionen bis zu 0,1 Mikrometer auf dem Substrat zu schaffen, um präzise UND hochpräzise mikroelektronische Komponenten zu gewährleisten.