Gebraucht APT 9145 EP #9124776 zu verkaufen

Hersteller
APT
Modell
9145 EP
ID: 9124776
Acid spray Cassette to cassette three nozzle spray system Nitrogen dry temperature and spin RPM controls.
APT 9145 EP ist eine Photoresist-Ausrüstung, die entworfen wurde, um die höchstauflösende Musterung von Wafern in der Forschung, Halbleiter, Mikroelektronik, Dünnschichtsolarzellen und Medizinprodukteindustrie bereitzustellen. Das System verwendet vordefinierte Projektionsmasken mit Beleuchtungsmustern, mit denen das Substrat während eines einzigen Zyklus an verschiedenen Stellen belichtet werden kann. Diese Art der Projektion ermöglicht die Strukturierung von Merkmalen bis zu 42 nm auf dem Substrat. Das Gerät verfügt über eine technologisch fortschrittliche optische Maschine mit integrierter Linse, die eine optimale Gleichmäßigkeit und Genauigkeit für anspruchsvolle Photolithographie-Anwendungen gewährleistet. Das Werkzeug verfügt zudem über eine einstellbare Bewegungsstufe und einen vollautomatischen Belichtungsprozess für wiederholbare und einheitliche Prozesse. Das Asset verwendet einen linearen telezentrischen Projektionsmotor, um sicherzustellen, dass Musterfokus und -größe über jeden Quadratmillimeter des Substrats konstant beibehalten werden. Dadurch wird sichergestellt, dass die Muster mit konsistenter Genauigkeit erzeugt werden. Die Software, die mit dem Modell geliefert wird, ist benutzerfreundlich und hilft Benutzern, die Parameter der Photolackausrüstung zu optimieren, was den Benutzern eine Fülle von Optionen bietet, wenn es darum geht, wie sie ihre Substrate mustern. Darüber hinaus ermöglicht die Software es Benutzern, verschiedene Parameter schnell zu speichern und abzurufen, sodass wiederholbare und genaue Ergebnisse erzielt werden können. In Bezug auf die Nachbearbeitung verfügt das System über eine Reihe von Optionen, die dazu beitragen, dass strukturierte Substrate vollständig von Rückständen gereinigt werden, unter Beibehaltung einer optimalen Substratstabilität. Zu den Möglichkeiten gehören die Verwendung von Ozon, Haloform und Schwefeldioxid, um das Substrat mit minimalen Schäden gründlich zu reinigen. Das Gerät verfügt außerdem über eine Wasserkühlmaschine, mit der die Substrattemperatur während der Belichtung stabilisiert werden kann. Dieses Werkzeug hilft, thermische Schäden zu reduzieren und sicherzustellen, dass das Substrat während der Verarbeitung kühl gehalten wird. Kurz gesagt, APT 9145EP ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Photoresist-Asset, das Anwendern viel Präzision und Genauigkeit für eine Vielzahl von Substratmusteranwendungen bietet.
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