Gebraucht APT SPIN 200i #9293875 zu verkaufen

APT SPIN 200i ist ein modernes Photoresist-Gerät für eine breite Palette von Halbleiter- und Elektronikanwendungen. Dieses umfassende Resistverarbeitungssystem wurde entwickelt, um den Anforderungen der schnell expandierenden Halbleiterindustrie gerecht zu werden. SPIN 200i nutzt eine überlegene Kombination aus hohem Durchsatz und Präzision in einer kompakten, platzsparenden Plattform. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten, einschließlich lösungsmittelbasierter und wasserbasierter Resiststoffe. Die fortschrittliche Photomaske ermöglicht eine präzise Musterregistrierung und ermöglicht die Herstellung hochauflösender Funktionen. APT SPIN 200i verwendet einen hocheffizienten vakuumunterstützten Spinnermechanismus, um eine homogene Beschichtung des Resists auf dem Substrat zu gewährleisten. Der vakuumunterstützte Spinner sorgt dafür, dass der Resist gleichmäßig und gleichmäßig über die gesamte Substratoberfläche verteilt wird. Es verwendet auch eine Präzisionsklinge-Spitze Spin Mechanismus, um eine gleichmäßige Schichtdicke zu gewährleisten. SPIN 200i wird über eine proprietäre benutzerfreundliche Oberfläche betrieben, die Anleitung während des gesamten Prozesses ermöglicht. Es umfasst erweiterte Datenerfassungs- und Berichtsfunktionen sowie vordefinierte Rezepte für Einheitsparameter, was zu mehr Konsistenz und Qualitätssicherung führt. Zusätzlich kann die integrierte Prozesssteuerungssoftware zur Überwachung und Einstellung der Spinnergeschwindigkeit und -temperaturen eingesetzt werden, um den gewünschten Vorgang zu verfeinern und zu wiederholen. APT SPIN 200i wird durch fortschrittliche Umwelttechnik angetrieben und ist somit eine ideale Maschine für chemisch sensible Anwendungen. Zu den Umweltmerkmalen gehören einstellbare Temperatur- und Feuchtigkeitskontrollen sowie fortgeschrittene Luft- und Schadstofffilterfähigkeiten zur überlegenen Prozesskontaminationsverhütung. Insgesamt ist SPIN 200i ein umfassendes Photoresist-Tool, das eine präzise Steuerung des Resist-Prozesses ermöglicht und für höchste Qualität sorgt. Es ist eine ausgezeichnete Lösung für verteilte Elektronik- und Halbleiteranwendungen.