Gebraucht AR BROWN H1220RNN #293589158 zu verkaufen

AR BROWN H1220RNN
ID: 293589158
Wafergröße: 6"
Spin dryer, 6".
AR BROWN H1220RNN ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine leistungsstarke Mikrofabrikationslösung für Halbleiterhersteller bereitstellt. Es ist ein fortschrittliches Photolacksystem, das eine präzise Belichtung mit der Fähigkeit bietet, eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten, von dünnen Metallfilmen bis zu dicken Polymerbeschichtungen. Die Photoresist-Einheit verwendet fortschrittliche Technologie, um außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Es enthält eine hochempfindliche Photomaske und Lichtquelle, sowie spezielle Optik und Filter, um den Photomaskenrand genau zu definieren. Dies ermöglicht eine hochauflösende Bildgebung, die eine Lithographie kleiner Merkmale ermöglicht. Die Maschine enthält auch einen Prozesstank. Dieser Tank ermöglicht eine präzise und wiederholbare Verarbeitung von Photolackmaterialien. Der Tank ist mit einem hochpräzisen Mischer und verstellbaren Führungsschienen ausgestattet, um eine präzise Abgabe des Photolackmaterials an den Wafer zu unterstützen. Es ist auch mit einem automatischen Füllwerkzeug ausgestattet, um eine gleichmäßige Abdeckung zu gewährleisten. H1220RNN Anlage ist in der Lage, eine breite Palette von Substraten zu verarbeiten, darunter Glas, Quarz und Polymere. Es verfügt über fortschrittliche UV-Lichtbelichtung und ein automatisiertes Entwicklermodell, um Photoresist-Anwendungen schnell zu verarbeiten. Photomaske, Prozessor und Lichtquelle sind in eine geschlossene, staubdichte NASA-Standardumgebung integriert, um optimale Ergebnisse zu gewährleisten. Das Gerät erzeugt hochauflösende lithografische Bilder, die bei der Herstellung einer Vielzahl von Geräten verwendet werden, einschließlich LEDs und Mobiltelefonkomponenten. Es eignet sich für den Einsatz in der Großserienproduktion mehrerer mikroelektronischer Bauelemente, einschließlich anderer Halbleiter, Anzeigevorrichtungen und photonischer Bauelemente. AR BROWN H1220RNN Photolacksystem ist eine ideale Wahl für Mikrofabrikationsprojekte. Es bietet eine zuverlässige, leistungsstarke Lithographielösung mit außergewöhnlichen Ergebnissen. Das Gerät ist in der Lage, Substrate mit hoher Präzision zu verarbeiten und bietet eine breite Palette von Photolackmaterialien für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen.
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