Gebraucht ARGUS INTERNATIONAL 9324 #9026013 zu verkaufen

ARGUS INTERNATIONAL 9324 ist eine hochpräzise Photoresist-Ausrüstung für den professionellen Einsatz in der Produktion von mikroelektromechanischen Systemen (MEMS). Das System ermöglicht präzise Belichtungen durch sein patentiertes maskenloses Lithographieverfahren mit einer DLP-Plattform (Digital Light Processing). Sein breites Wellenlängenspektrum ermöglicht es dem Anwender, mit einer Vielzahl von Resists und Materialien zu experimentieren. Zusätzlich ist die Belichtungszeit einstellbar, was präzisere Ergebnisse ermöglicht. 9324 verwendet eine Festkörperlichtquelle, die geschaltet/gesteuert werden kann, um verschiedene Wellenlängen bereitzustellen. Dies macht es ideal für Mikro- und Submikro-Lithographieprojekte und bietet optimale Fokusbedingungen für verschiedene Objekte. Im Vergleich zu anderen Photolacksystemen garantiert die ARGUS ARGUS INTERNATIONAL 9324 eine hervorragende langfristige Installationsstabilität und minimale Wartungsanforderungen. Es verfügt auch über eine automatische Kalibriereinheit, die eine präzise Belichtungsdosis jederzeit gewährleistet. Das gesamte Sichtfeld von 9324 ist 10 „bis 6,14“, während die maximale Auflösung 40 µm für rechteckige Strukturen und 80 µm für runde Strukturen ist. Es kann Proben bis zu 8 „bis 6,14“ handhaben und seine hohe Treue und Genauigkeit bietet optimale Bedingungen für verschiedene Radierungen. Die Maschine ist mit einer breiten Palette von Programmen ausgestattet, die eine Vielzahl von Anwendungen abdecken, wie z. B. Ätzschichten, dicke und dünne Oxidschichten, dichte und dünne Metallschichten, Schutzschichten usw. Darüber hinaus können alle Prozesse im Zusammenhang mit Photoresists durch das automatisierte Steuerungstool von ARGUS INTERNATIONAL 9324 überwacht werden. Diese Funktion ermöglicht es dem Anwender, die Belichtungszeit, die Dosis und die Anzahl der Prozesse anzupassen sowie die Entwicklung, Bildgebung und Ätzung zu überwachen. 9324 bietet eine hervorragende Balance zwischen Vielseitigkeit und Leistung. Die patentierte maskenlose Lithographie sorgt für hohe Genauigkeit und lässt sich problemlos in die meisten auf dem Markt erhältlichen Produktionssysteme integrieren. Daher bietet dieses Fotolackmodell eine ideale Lösung für universitäre Forschungslabore oder Produktionsanlagen.