Gebraucht ASI 9025 #9026017 zu verkaufen

ASI 9025 ist eine von Allied Signal Inc. (ASI), die eine Schicht aus Photolack auf einem Substrat erzeugt. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das zur Strukturierung von Substratoberflächen im Rahmen eines Lithographieverfahrens verwendet wird. Es kann in einer Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, einschließlich für die Schaffung von Halbleiterintegrierten Schaltungen, Flachbildschirmen und mikroelektronischen Komponenten. 9025 Photolacksystem verwendet ein Doppelbelichtungsverfahren, um das gewünschte Muster auf dem Substrat zu erzeugen. Dabei wird das Substrat zunächst einer Photolackschicht ausgesetzt, die zuvor in einer Ammoniumsalzlösung getränkt wurde. Dieses Verfahren wird als „Weichbacken“ bezeichnet. Der Photolack wird dann einer Lichtquelle, wie einer Quecksilberlampe, ausgesetzt, die eine chemische Reaktion auslöst, bei der lichtempfindliche Moleküle mit dem Substratmaterial reagieren. Sobald das gewünschte Muster in dieser Phase erstellt ist, ist es bereit, den Ätzprozess durchzuführen. Der zweite Schritt der Photolackeinheit wird als „Hartbacken“ bezeichnet. Es handelt sich um eine intensivere Lichtquelle und erfordert in der Regel zusätzliche Schritte wie Vorbacken oder Nachbacken, um sicherzustellen, dass das Endprodukt den Kundenspezifikationen entspricht. Während dieser Verfahrensphase wird der Photolack wieder der Lichtquelle ausgesetzt, diesmal jedoch mit einer höheren Intensität und mit einer wesentlich schnelleren Rate. Dadurch kann das gewünschte Muster definitions- und genauer geätzt werden. Die Photoresist-Maschine ASI 9025 ist ein vielseitiges und langlebiges Verfahren zur Erzeugung eines hochgenauen Musters auf einem Substrat. Durch das doppelte Belichtungsverfahren wird sichergestellt, dass jedes Substrat mit der entsprechenden Intensität und Geschwindigkeit Licht ausgesetzt wird, wodurch sichergestellt ist, dass das gewünschte Muster präzise und zuverlässig geätzt wird. Der zweistufige Prozess trägt auch dazu bei, qualitativ hochwertige Ergebnisse und minimalen Abfall auf dem Substrat zu gewährleisten, die Effizienz und Kosteneinsparungen für den Kunden zu maximieren. Das Photoresist-Werkzeug ist hochgradig anpassbar und ermöglicht es Kunden, die Dicke des Fotoresists, seine Belichtung mit Licht und seine Reaktionsgeschwindigkeit je nach Bedarf für ihre Anwendungen anzupassen. Insgesamt ist 9025 Photoresist Asset eine effiziente und zuverlässige Methode zur Erstellung präziser Muster auf Substraten. Mit seinem doppelten Belichtungsprozess und den anpassbaren Optionen bietet es eine effektive und kostengünstige Möglichkeit, qualitativ hochwertige Produkte in einer Vielzahl von Anwendungen zu erstellen.