Gebraucht ASML XT 1900Gi #9298751 zu verkaufen

ASML XT 1900Gi
ID: 9298751
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
System, 12" 2008 vintage.
ASML XT 1900Gi ist eine Photolackausrüstung, die von ASML, einem führenden Anbieter von Lithographieanlagen für die Halbleiterindustrie, entwickelt wurde. Das System ist ein photolithographisches Werkzeug, das bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird, um Muster auf Halbleiterscheiben zu erstellen. Es basiert auf einer tiefen UV-Lithographieeinheit und wird verwendet, um hochpräzise Muster auf Wafern zu erstellen. Die Maschine verwendet eine E-Strahl-Belichtungsquelle und eine Quecksilber-Lichtbogenlampenquelle. Die Belichtungsquelle des Werkzeugs kann je nach Anwendung einen weiten Wellenlängenbereich aufweisen - von 147 nm bis 193 nm. Die Belichtungsquelle weist außerdem einen einstellbaren Laserverschluss und Retikelparameter auf. Die Anlage ist mit einem fortschrittlichen optischen Modell ausgestattet, das ein optisches Design mit einer Split-Focus-Technologie kombiniert. Das Gerät verfügt über ein modernes Wafer-Futter, das zur Verringerung der Partikelverschmutzung und zur Verringerung des optischen Abbaus ausgelegt ist. Die Photolackverarbeitung des Systems wird von einem fortschrittlichen Controller gesteuert, der eine präzise Kontrolle der Prozesskonsistenz und -genauigkeiten ermöglicht. Das Gerät ist mit einer Vielzahl von Chemikalien kompatibel und unterstützt sowohl Lösungsmittel- als auch Trockenätzprozesse. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, eine Vielzahl von Photolackmaterialien wie ArF, KrF und I-line zu handhaben. Das Werkzeug kann auch als Belichtungswerkzeug verwendet werden, da es über einen mehrkanaligen, hochauflösenden Wafer-Stepper verfügt. Der Schrittmotor verfügt über hochauflösende Linearmotoren und eine schnelle Achsenkompensationstechnologie. Darüber hinaus ist die Anlage auch mit einem großen Spanntisch ausgestattet, der Substrate von bis zu 600 mm Größe handhaben kann. Die erweiterten Automatisierungsfunktionen des Modells bieten eine effiziente und zuverlässige Lösung für die Verwaltung der Produktionsabläufe. Es integriert sich in ASML Automation Server und ermöglicht Anwendern die einfache Verwaltung und Optimierung des Produktionsprozesses sowie die Überwachung und Steuerung aller Produktionsabläufe von einem zentralen Standort aus. Zusätzlich zu den Automatisierungsfähigkeiten der Geräte ist das System auch mit einer Chemikalienliefereinheit ausgestattet, die eine kontrollierte chemische Lieferung an die Expositionsquelle für Ätz-, Resist- und Reinigungsprozesse ermöglicht. Die Maschine ist außerdem mit einem Mustermanagement-Tool ausgestattet, das einen effizienten Workflow für die Probenhandhabung bietet. Insgesamt ist ASML XT:1900GI Photoresist Asset ein leistungsfähiges und zuverlässiges Belichtungswerkzeug für Lithographieanwendungen. Es bietet ein hohes Maß an Prozessgenauigkeit, Automatisierungsfunktionen und Flexibilität. Dieses Modell ist eine kostengünstige Lösung zur Erstellung hochpräziser Halbleitermuster auf Wafern.
Es liegen noch keine Bewertungen vor