Gebraucht ASML XT 1900Gi #9375189 zu verkaufen

ASML XT 1900Gi ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Der Eingang zum System ist eine Belichtung mit ultraviolettem Licht, die verwendet wird, um ein physikalisches Muster auf einem Halbleiterwafer zu erzeugen, das als Schablone für den Herstellungsprozess dient. Der Ausgang der Einheit ist ein digital präzises Bild, das auf den Wafer übertragen wird. Die Maschine nutzt ein sehr hochauflösendes Bildgebungswerkzeug und eine Hochleistungs-Ultraviolettlichtquelle, die fünfzehnmal die Standard-Lithographie-Auflösung kann. Dies ermöglicht es dem Asset, unglaublich präzise Muster und Strukturen auf dem Wafer zu erzeugen, was die Entwicklung extrem anspruchsvoller mikroelektronischer Komponenten ermöglicht. Darüber hinaus kann das Modell sowohl in Direktschreiblithographie als auch in Kontaktlithographie-Anwendungen eingesetzt werden. ASML XT:1900GI ist mit einem integrierten Reticle-Montagemodul und einer automatischen Wafer-Handhabung ausgestattet. Dadurch erreicht das System eine außerordentliche Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Die Wafer werden genau und sicher auf dem Retikelmontagemodul ausgerichtet und dann auf den Belichtungskombinator übertragen, wodurch eine genaue Korrelation zwischen den Konstruktionselementen des Wafers und dem von der Einheit erzeugten Bild gewährleistet ist. Das Gerät enthält auch einen integrierten Scanner, der in der Lage ist, sehr detaillierte Bilder zu erzeugen. Dieser Scanner ist mit hochauflösender Optik ausgestattet, so dass er komplexe Muster und Strukturen mit beispielloser Klarheit erzeugen kann. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, Bilder mit einer schnellen Geschwindigkeit zu erzeugen, was eine Reihe neuer Anwendungen ermöglicht. XT1900 GI ist hochautomatisiert und somit eine ideale Lösung für photolithographische Prozesse, die extrem präzise Muster erfordern. Darüber hinaus ist das Gerät einfach zu bedienen und zu warten, so dass es in einer Vielzahl von Produktionsumgebungen eingesetzt werden kann. Es ist auch mit einer Reihe von potentiellen Substratmaterialien und -prozessen kompatibel und ermöglicht die Herstellung einer breiten Palette von mikroelektronischen Bauelementen. Abschließend ist XT:1900GI ein leistungsfähiges Photolackwerkzeug, das für die Fertigung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente optimiert wurde. Es bietet außergewöhnlich hochauflösende Bildgebungsfunktionen, präzises Mustern und schnelles Auto-Staging, was die Herstellung komplexer und äußerst präziser Strukturen ermöglicht.