Gebraucht ASML XT 1900Gi #9401777 zu verkaufen

ASML XT 1900Gi ist ein leistungsstarkes lithographisches Werkzeug zur Herstellung von Mikrochips. Es handelt sich um eine hochmoderne Photolackanlage mit einer maximalen Bildauflösung von 250 Nanometern. Das System verfügt über einen ultrakurzen UV-Laser sowie eine Reihe fortschrittlicher Prozesskontroll- und Messprotokolle, die es ermöglichen, Photolack und andere Materialien schnell und genau zu belichten, um komplizierte Muster auf dem Substrat zu erstellen. ASML XT:1900GI ist in der Lage, mit einer breiten Palette von Materialien zu arbeiten, von traditionellen organischen Photoresist bis hin zu modernen synthetischen nanokristallinen und Block-Copolymer-Photoresists. Die Einheit besteht aus einer Immersion-Lithographie-Plattform mit einer fortschrittlichen Bildverarbeitungsmaschine zur Musterausrichtung und -registrierung. Zur Maskenausrichtung verwendet XT1900 GI ein fortschrittliches Strukturlicht-Bildgebungswerkzeug, das die Maskenposition während der Belichtung kontinuierlich überwacht und anpasst. Das Asset nutzt auch ein breites Feld von View-Kamera, die den gesamten Substratbereich anzeigen können, so dass eine genaue Positionierung und Überwachung von kleinen Funktionen. Außerdem schließt XT:1900GI ein fortgeschrittenes Fotolithographieprozesssteuerungsmodell mit einer fortgeschrittenen Modellieren- und Simulierungsfähigkeit ein, die hohe Bildgenauigkeit sichert, selbst wenn sich Materialien ändern. Die Ausrüstung ist auch in der Lage, Wafer-zu-Wafer-Neuausrichtung schnell durchzuführen und Prozessschwankungen über ein fortschrittliches Messsystem zu überwachen. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine integrierte Automatisierungsplattform mit einem erweiterten Framework zur Verwaltung sowohl der Hardware- als auch der Softwaresteuerung des Lithographieprozesses. Dadurch kann die Maschine schnell und einfach in andere Prozessanlagen und Remote-Systeme wie automatisierte Analysesysteme integriert werden, wodurch der Trend der Miniaturisierung fortgesetzt und der Durchsatz des Werkzeugs verbessert wird. ASML XT1900 GI ist eine zuverlässige, genaue und effiziente neue Photolackanlage für den modernen Halbleiterfab. Es ist sehr vielseitig und bietet die Fähigkeit, eine breite Palette von Materialien genau zu verarbeiten, mit einer Auflösung, die auch die kompliziertesten Muster produzieren kann. In Verbindung mit seiner fortschrittlichen Prozesssteuerung und Automatisierung ist XT 1900Gi ein hervorragendes Werkzeug für Chiphersteller, die nach höchster Qualität und Ertrag suchen.