Gebraucht ASYMTEK C 341 #9225861 zu verkaufen

Die Photoresistausrüstung ASYMTEK C 341 ist eine ideale Lösung für eine hochpräzise, wiederholbare Dosierung und Beschichtung für eine Vielzahl von Produkten und Verfahren, wie Silber und Verchromung auf Waferoberflächen und dünnen Submikronschichten. Es bietet hochgenaue, wiederholbare und präzise Ausgabe von Photolack mit Submikron-Auflösung. C 341 System verwendet eine einzigartige Abgabetechnik namens „Cold Spray“, um Photoresist genau auf ein Substrat aufzutragen. Bei diesem Verfahren wird eine Kaltsprühtechnik angewendet, bei der der Photolack bei extrem niedriger Temperatur abgegeben wird, was zu einer präzisen und präzisen Steuerung der Dicke der Photolackbeschichtung führt. Das Kaltsprühverfahren ermöglicht auch eine präzise Steuerung einer durch die Bedingungen des Substrats bedingten Kantenablenkung des Fotolacks. Die Einheit ASYMTEK C 341 verwendet eine einzigartige Luftdüse, um den Resist auf die Substratoberfläche zu bringen, um den Kontakt zwischen dem Substrat und der Düse zu beseitigen und dadurch mögliche physikalische Schäden am Substrat oder einem anderen Produkt, das durch den Kontakt der Düse freigelegt werden kann, zu beseitigen. Darüber hinaus verfügt die Maschine C 341 über erweiterte Timing- und Steuerungsfunktionen wie Verzögerungszeiteinstellungen, Geschwindigkeitssteuerung und eine Vielzahl von Oszillationen, die eine genaue Abgabe und Beschichtung von Photolack mit minimalem Overspray ermöglichen. Dadurch wird eine überlegene Qualität und Gleichmäßigkeit der Photolackbeschichtungen gewährleistet. Darüber hinaus gewährleistet die Selbstdiagnose des Werkzeugs eine wiederholbare und zuverlässige Leistung, wodurch die Anforderungen an Überwachung und Wartung reduziert werden. ASYMTEK C 341 Asset bietet eine fortschrittliche Prozesssteuerung und wird in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, einschließlich Prototyping, Druck, Maskierung, Montage und Schritt-und-Schritt-Baugruppen. Diese Flexibilität ermöglicht es, die unterschiedlichsten Bauteile mit der gleichen hohen Präzisionswiederholbarkeit zu handhaben. Darüber hinaus ist das Modell benutzerfreundlich und kann mit minimalem Rüstaufwand in bestehende Prozesse integriert werden. Die Photoresistanlage C 341 ist ein kostengünstiges, hochpräzises Verfahren zum Aufbringen von Photoresist auf Substrate. Mit seiner breiten Palette von Anwendungen und erweiterten Steuerungsfunktionen ist es ideal für kleine und große Serien.