Gebraucht AXCELIS / FUSION R850 #9144806 zu verkaufen

AXCELIS / FUSION R850
ID: 9144806
Wafergröße: 8"
Rapid thermal anneal system, 8".
AXCELIS/FUSION R850 ist eine Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung für Lithographieverfahren. Das System kombiniert mehrere Funktionen, um kosteneffiziente, zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse für kritische Lithographieanwendungen wie erweiterte Logik-, Speicher- und Anzeigeanwendungen zu liefern. Es wurde entwickelt, um die anspruchsvollsten globalen Marktanforderungen für die Waferbearbeitung zu erfüllen, und seine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche bietet Forschungs-, Entwicklungs- und Produktionspersonal die Informationen, die sie benötigen, um die gewünschten Geräteeigenschaften zu optimieren. FUSION R850 verfügt über eine hochfrequente Xenon-gefüllte Lampe, eine schnelle TTL-Belichtungssteuerung, eine überlegene hochpräzise bearbeitete Optik und ein fortschrittliches Umgebungskontrolldesign, mit dem Benutzer das Gerät genau abstimmen können. Diese Komponenten kombinieren, um eine hochgenaue Photolackmaschine mit einer hochdichten Auflösungsfähigkeit von 5,1 Mikrometern auf einer 1k λ Maske und einer gesamten Werkzeuggleichförmigkeit von 0,5% oder weniger bereitzustellen. Das Asset bietet auch eine kontrastreiche Bildgebung für fortschrittliche IC-Designs und verfügt über eine breite Palette von Objektivfunktionen, einschließlich spezialisierter Prozesse wie Kontaktierungslithographie und Single Layer Gate-Musterung. Darüber hinaus umfasst das Modell automatisierte Endpunkterkennungs- und Wafer-Ladefunktionen, die Benutzereingriffe minimieren und Produktionsdurchsatzsteigerungen von bis zu 30% ermöglichen. Die erweiterte Belichtungssteuerung umfasst ein optionales dynamisches GPSM-Modul, mit dem Benutzer Systemparameter in Echtzeit präzise verwalten können und so die höchste Wiederholbarkeit der Ergebnisse ermöglicht wird. Um maximale Effizienz bei der Bearbeitung von Wafern zu gewährleisten, verfügt AXCELIS R850 über einen optionalen Loadlock, der es Anwendern ermöglicht, vor der Programmierung bis zu zehn Wafer-Kassetten im Gerät zu übertragen und zu lagern, so dass ein kontinuierlicher Betrieb ohne Eingriff des Bedieners möglich ist. Darüber hinaus verfügt die Maschine über einen Hot-Swap-Kassettenmechanismus, der es dem Bediener ermöglicht, Patronen mit Wafern auszuschalten, während das Werkzeug in Betrieb ist. Die Kompatibilität der Anlage mit der PCS Process Planning Software gewährleistet optimale Geräteeigenschaften und Produktionserträge in Kombination mit R850. Diese Eigenschaften, kombiniert mit seiner Zuverlässigkeit und Kosteneffizienz, machen AXCELIS/FUSION R850 Photoresist-Modell die Wahl von vielen Branchenexperten, die genaue Lithographieergebnisse und qualitativ hochwertige Erträge benötigen. Seine überlegenen Funktionen sorgen dafür, dass seine Anwender gut auf die Anforderungen eines sich rasch verändernden globalen IC-Marktes vorbereitet sind.
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