Gebraucht BOSCIEN Customized #9226922 zu verkaufen

BOSCIEN Customized ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen entwickelt wurde. Das Photoresist-System wurde entwickelt, um eine hervorragende Lichtempfindlichkeit und Auflösung für den Einsatz in der Reinraum- und MEMS-Herstellung zu bieten. Das einzigartige Merkmal von Customized ist seine Fähigkeit, eine effiziente Produktion von elektronischen Teilen mit einem hohen Grad an Anpassung zu ermöglichen. Die Photolackeinheit besteht aus mehreren Komponenten, darunter einer lichtempfindlichen Chemikalie, einer Lichtquelle und einer Maske. Zunächst wird die lichtempfindliche Chemikalie auf das Substrat aufgebracht und der Lichtquelle ausgesetzt. Dies bewirkt eine Veränderung der Zusammensetzung der Chemie und bildet eine Schicht auf dem Substrat. Dieser Prozess wird allgemein als „Exposition“ bezeichnet. Anschließend wird die Maske verwendet, um bestimmte Teile des Substrats abzudecken und vor Belichtung zu schützen. Mit dieser Maschine ist es möglich, Muster auf einem Substrat mit feiner Auflösung und großer Genauigkeit zu erzeugen. Darüber hinaus kann das Werkzeug leicht zur Erstellung von Mustern auf mehreren Arten von Substraten wie Halbleitern, Metallen und Glas verwendet werden. Sobald die Muster erstellt sind, wird der Photolack in einem Prozess entfernt, der als „Entwicklung“ bezeichnet wird. Dies geschieht üblicherweise durch Eintauchen des Substrats in eine Entwicklerlösung, die eine Chemikalie ist, die mit dem Photolack reagiert. Der Entwicklungsprozess schließt den Musterübertragungsprozess ab, was zu feinen, präzisen Mustern führt. Die Vorteile der Verwendung von BOSCIEN Customized für die Herstellung sind viele. Es bietet eine überlegene Lichtempfindlichkeit, die es dem Asset ermöglicht, unter einem breiten Spektrum von Bedingungen gut zu arbeiten. Darüber hinaus kann die Maske verwendet werden, um ein hohes Maß an Anpassungen sowohl an der Mustergröße und dem Layout als auch an genauen Details zu ermöglichen. Darüber hinaus ist das Photolackmodell wirtschaftlich und erfordert minimale Rüstzeit und Kosten. Schließlich ist es relativ einfach zu bedienen und kann für jede Art von Substrat verwendet werden. Abschließend ist Customized eine vielseitige Photoresist-Ausrüstung, die für eine breite Palette von Anwendungen nützlich ist. Mit seiner überlegenen Auflösung, Anpassungsfunktionen und Wirtschaftlichkeit ist es eine gute Wahl für jede Art von MEMS, Reinraum und Elektronikherstellung.