Gebraucht BREWER SCIENCE 200X #9400327 zu verkaufen

BREWER SCIENCE 200X ist eine Photoresist-Ausrüstung für die Waferbearbeitung, die auf eine verbesserte Prozesssteuerungsoptimierung, geringe Defektivität und verbesserte Erträge abzielt. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das bei der Herstellung von Geräten wie Mikrochips verwendet wird. 200X System kann zur Belichtung von Photoresist durch eine Photomaske und zur Entwicklung des Wafers verwendet werden, um das gewünschte Muster zu erzeugen. BREWER SCIENCE 200X Photolackeinheit umfasst mehrere Komponenten. Dazu gehören eine Deckplatte, eine Bodenplatte, ein Belichtungskopf und eine Lichtquelle. Die obere Platte hat eine Photomaske darauf und die untere Platte hält den Photolack. Der Belichtungskopf besteht aus einer Optik, die darauf ausgelegt ist, das gewünschte Lichtmuster genau auf den Fotolack zu fokussieren. Die Lichtquelle ist eine Lichtquelle hoher Intensität mit einer Wellenlänge im Bereich von 197 nm und 248 nm. 200X Maschine kann verwendet werden, um den Fotolack mit einer Vielzahl von Merkmalen mit einer hohen Genauigkeit zu strukturieren. Das Tool soll eine langfristige, zuverlässige und wiederholbare Prozesssteuerung gewährleisten. Es ist speziell für die Handhabung von Photomasken mit kleinen Merkmalen ausgelegt, wie sie in fortgeschrittenen integrierten Schaltungen erforderlich sind. BREWER SCIENCE 200X bietet auch erweiterte Prozesssteuerungs- und Optimierungstools. Dazu gehören ein Prozessregler, der den Belichtungsprozess überwacht und verwaltet sowie Prozesse wie Wasserkühlung, Vorbacken und Nachbacken des Wafers. Andere Werkzeuge ermöglichen die Überwachung der Schichtdicke und des Bildkontrasts von Photolacken und die Sammlung von Prozessdaten in Echtzeit. Darüber hinaus bietet 200X Photoresist Asset eine benutzerfreundliche PC-basierte Softwareschnittstelle. Dadurch können Benutzer auf das Modell aus der Ferne zugreifen und es steuern, einschließlich der Möglichkeit, die Belichtungs- und Prozessparameter anzupassen. Das Gerät kann auch in Verbindung mit einem automatisierten Sichtkontrollsystem eingesetzt werden, das eine automatisierte Inspektion von Fotoresistbildern ermöglicht, um Muster zu überprüfen und Fehler zu erkennen. Insgesamt bietet BREWER SCIENCE 200X Photolackeinheit ein effektives Werkzeug für die Waferbearbeitung mit verbesserter Prozesssteuerungsoptimierung, geringer Defektivität und verbesserten Erträgen. Es bietet eine fortschrittliche Prozesssteuerung und -optimierung sowie eine benutzerfreundliche PC-basierte Softwareschnittstelle. Die Maschine eignet sich gut für die Strukturierung von Fotolack mit einer breiten Palette von Funktionen mit hoher Genauigkeit.