Gebraucht BREWER SCIENCE Apogee bake FL #293659674 zu verkaufen

BREWER SCIENCE Apogee bake FL ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung für den Einsatz von Folienresistsystemen. Dieses System eignet sich für hochvolumige Lithographiebedürfnisse und ermöglicht schnelle, zuverlässige und wiederholbare Prozesse. Die Einheit steuert sowohl die Drehgeschwindigkeit als auch die auf den Photolack aufgebrachte Prozesszeit und backt die Resistschicht anschließend auf die Waferoberfläche. Die Maschine verwendet eine einzigartige „Spin-and-Bake“ -Methode, um eine gleichmäßige und zuverlässige Beschichtungsschicht zu schaffen. Bei diesem Verfahren handelt es sich um spinnerbasierte Beschichtungen, gefolgt von hochgenauem Backen in geschlossener Umgebung. Bei diesem Verfahren wird der Resist mit konstanter Strömungsgeschwindigkeit und VOC-freier Umgebung auf den Wafer aufgebracht. Hochgenaues Backen wird mit Präzisionsheizelementen und Sensoren erreicht. Das Werkzeug ist in der Lage, Temperatur und Zeit genau zu überwachen und eine gleichmäßige Wärmeverteilung sicherzustellen. Die Maße der Backkammer sind für eine gleichmäßige Temperaturverteilung bis 230 ° C optimiert, was eine möglichst kurze Backzeit ermöglicht. Apogee bake FL verfügt auch über fortschrittliche automatisierte Software, mit der Benutzer automatisierte Rezepte, Prozessdateien und Steuerparameter erstellen können, um das Asset auf bestimmte Anforderungen abzustimmen. Benutzer können die Teilsysteme programmieren, um ihre Ergebnisse zu optimieren, wie die Geschwindigkeit und die Zeit des Schindelzuführers, die Verweilzeit des Spinners, die Geschwindigkeit der Infiltrationskammer, der Temperatursollwert und andere Parameter. Darüber hinaus ist das Modell mit einer Reihe von Onboard-Verarbeitungsrezepten ausgestattet. Neben der Prozessautomatisierung bietet die Anlage eine Reihe von Sicherheits- und Umweltschutzmerkmalen wie Selbstüberwachung von Temperaturen, geringe chemische Emissionen und effiziente Energiespartechnologie. Dies sorgt für eine sichere und umweltfreundliche Umgebung am Arbeitsplatz. BREWER SCIENCE Apogee bake FL ist ein fortschrittliches und effizientes Photoresist-System, das den Anforderungen der hochvolumigen Lithographie gerecht wird. Es bietet eine gleichmäßige Beschichtungsschicht, eine präzise Temperaturregelung, automatisierte Rezepte und eine Reihe von Sicherheits- und Umweltmerkmalen. Mit dem Gerät können Anwender wiederholbare und zuverlässige Ergebnisse erzielen und so ihren Erfolg in einer Vielzahl von Lithographieanwendungen sichern.